Occasion NIKON i12D #293823356 à vendre en France

NIKON i12D est une étape conçue pour les procédés de lithographie et de microfabrication. C'est une machine de lithographie optique qui utilise des optiques à ouverture numérique standard ou haute. I12D est composé de plusieurs composants, y compris une plate-forme optique aéroportée, un étage de mouvement grossier et fin, un équipement réticulaire, et des contrôles d'exposition/processus. La plate-forme optique de NIKON i12D est composée d'une conception à trois caméras NIKON, qui utilise un prisme principal central d'exposition et deux caméras latérales pour capturer le champ de vision complet d'une plaquette semi-conductrice. Ceci permet un positionnement rigoureux de l'optique pour une exposition lithographique optimale et des performances répétables. La plate-forme optique offre 0,75 et 0.5NA systèmes optiques pour masques transparents et réfléchissants, et une ouverture numérique de jusqu'à 0.1NA pour les applications de lithographie à haute conductivité. Les optiques ont un diamètre de 6,35 mm, offrent une ligne de visée optique ininterrompue et conviennent à la fabrication de tailles allant jusqu'à 200mm ². L'étage Nanomètre précis de i12D est équipé d'un guide linéaire NIP de haute précision recouvert de fluor, ainsi que d'un système de contrôle de mouvement nanométrique (NMC), qui utilise l'auto-positionnement pour permettre jusqu'à + -200 μ m de mouvement de saut. L'étage de mouvement grossier a une plage de mouvement maximale de 50mm tandis que l'étage de mouvement fin fournit une plage maximale de 16mm. Les deux étages sont commandés par une unité de guidage de précision. La machine à réticules NIKON i12D utilise l'outil d'échange de réticules (RES) pour transférer des masques de motifs du stockeur. Cet actif utilise l'alignement automatisé pour minimiser le temps de configuration et réduire le temps de cycle pour l'exposition. Enfin, les contrôles d'exposition/processus d'i12D offrent des paramètres d'exposition réglables, y compris le temps d'exposition et l'intensité de la puissance laser, ainsi que des paramètres de processus, tels que la température du processus, les taux de chauffage/refroidissement et les temps de processus. NIKON i12D peut également être programmé pour une opération en un seul contact. En conclusion, i12D est une étape avancée spécialement conçue pour les procédés de lithographie et de microfabrication. Il dispose d'une plate-forme optique à trois caméras, d'un étage précis au nanomètre, d'un modèle d'échange réticulaire et de paramètres d'exposition et de processus réglables. Cet étage est adapté aux dimensions des plaquettes semi-conductrices jusqu'à 200mm ², offrant une exposition lithographique optimale, un traitement efficace et un guidage de précision.