Occasion NIKON i8 #293593221 à vendre en France

NIKON i8 est un pas de plaquette de lithographie conçu pour être utilisé dans les installations de fabrication de semi-conducteurs. Ce dispositif est capable d'effectuer diverses opérations de photolithographie allant de l'ébauche de lignes de mots aux couches à double emboîtement et empilement. NIKON I 8 est équipé d'une variété de composants de lithographie à semi-conducteurs de dernière génération, y compris deux lentilles à haut NA pour une résolution et une uniformité extrêmes. Le système est également livré avec une grande variété d'étages pas à pas, des mécanismes de positionnement précis, des systèmes d'éclairage, des instruments de métrologie, et la robotique cellulaire pour l'alignement et la fixation précise. Avec son champ de balayage rotatif et ses capacités d'imagerie haute résolution avancées, i8 peut gérer des processus de lithographie à grande échelle ainsi que de petits travaux. I 8 offre une gamme d'améliorations de performance, y compris l'alignement de haute précision et les capacités de balayage des plaquettes. Il dispose d'une étape de positionnement très précise, avec résolution nanométrique et répétabilité, permettant une superposition et un placement précis des masques et des modèles. NIKON i8 dispose d'une lentille de projection haute NA qui offre la flexibilité nécessaire pour imprimer avec précision des caractéristiques de tailles égales ou supérieures à 0,1 µm. Cela lui permet de réaliser des motifs avec une extrême précision, et d'imprimer des dispositifs semi-conducteurs ULSI avec encore plus de détails. La lentille de projection est combinée à un système programmable d'éclairage de champ uniforme, permettant aux utilisateurs de définir les paramètres d'éclairage de précision au besoin. En outre, NIKON I 8 comprend un module de métrologie avancé, qui évalue la précision de positionnement et la superposition des couches. Cela permet aux utilisateurs de comprendre l'exactitude de l'impression et facilite la vérification des motifs et les processus de correction. I8 est également capable de traiter la couche d'empilement et de doubler. En utilisant sa fonction d'auto-alignement et de robotique avancée, le dispositif peut gérer des tâches complexes telles que des structures de dispositifs 3D, et peut également graver des portions de motifs de résistance sans compromettre les couches sous-jacentes. Le dispositif permet également un débit élevé et des taux de défauts faibles, grâce à son processus automatisé de manipulation robotique et à sa vitesse d'échange rapide des plaquettes. Enfin, I 8 est conçu pour avoir une petite empreinte, ce qui le rend facile à installer dans une variété de paramètres. Sa construction robuste garantit également la fiabilité même dans les environnements de fabrication les plus difficiles. En combinaison avec ses fonctionnalités avancées, cela fait de NIKON i8 une solution supérieure pour les besoins en lithographie semi-conductrice.