Occasion NIKON NES1 H04 #9225317 à vendre en France

NIKON NES1 H04
Fabricant
NIKON
Modèle
NES1 H04
ID: 9225317
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2010
Mini steppers, 6" Resolution: 2 μ L/S, K=0.8 Wave frequency: H line (405 nm) N.A: 0.16 Exposure range: 15.00 mm x 15.00 mm ~ 11.23 mm x 18 mm Alignment accuracy: |M| 3σ ≦ 0.3 μm Reticle size: 5” x 5”, t=0.09" Quartz glass Throughput: 6” Wafer (61) shots, 60w/h 2010 vintage.
NIKON NES1 H04 est un pas de tranche de haute précision conçu pour les processus de photolithographie difficiles dans la fabrication de semi-conducteurs. Il offre une imagerie finement détaillée avec une résolution de 325nm/pas. La conception intuitive s'adapte facilement à diverses applications de laminage et d'exposition. Le pas de plaquette dispose d'un système de balayage précis et fiable, qui permet l'alignement précis du masque et de la plaquette, assurant des coordonnées horizontales et verticales précises et reproductibles. Il est équipé d'un étage d'orientation grand format qui supporte la couture par faisceau de ventilateurs pour fournir une précision supérieure dans l'alignement des motifs, et un mode de balayage complet pour les grandes plaquettes. NIKON NES1-H04 offre un certain nombre de fonctionnalités qui rendent les applications de photolithographie plus faciles et plus efficaces. Il comprend NIKON proprietary Voice Image Process Technology (VIPT) qui permet aux utilisateurs d'ajuster rapidement les paramètres d'exposition en fonction des modèles et des matériaux. Il inclut également l'automatisation multi-EXEL leader mondial pour supporter une acceptation DUT élevée. Le wafer stepper dispose également d'une interface utilisateur intuitive à écran tactile, qui fournit un accès direct à toutes les fonctionnalités et paramètres de la machine. Cela comprend une vue caméra pour visualiser les progrès du travail, ainsi que les paramètres d'exposition prédéfinis. Toutes ces caractéristiques de conception se combinent pour fournir d'excellentes performances pour une gamme d'applications de photolithographie. Le système de balayage fiable assure un alignement précis des motifs, tandis que l'interface graphique intuitive rend les réglages rapides et faciles. Pour les utilisateurs qui ont besoin du plus haut niveau de détail et de précision dans leurs processus de photolithographie, NES1 H04 est une solution idéale.
Il n'y a pas encore de critiques