Occasion NIKON NES1 H04 #9356064 à vendre en France

NIKON NES1 H04 est un pas de plaquette, un outil précis pour créer des photomasques utilisés pour l'impression de circuits intégrés. L'équipement offre aux utilisateurs un système d'exposition extrêmement haute résolution composé d'un pas de commande numérique (DCM) très précis qui assure une exposition précise et répétable des photomasques. NIKON NES1-H04 utilise une puissante optique micro-focale de 8,4 microns, offrant une résolution totale de 0,5 micron avec une précision de +/-1,5 et une répétabilité de +/-3um. Il dispose en outre d'un pas de niveau sous-terrain innovant, qui offre une précision de 0,2 micron. Son temps de répétition de 0,5 seconde permet un fonctionnement rapide et ininterrompu dans la plupart des environnements d'impression à haut volume, et la technologie intégrée de compensation des erreurs de répétabilité (REC) améliore encore la tâche de la lithographie. Le wafer stepper dispose également d'une caméra très sensible à couplage de charge (CCD) pour surveiller l'intégrité de l'échantillon et la précision de position. Cette caméra CCD est très sensible, utilisant un CCD avec une résolution de 12,3 mégapixels à une cadence de 10 images par seconde, permettant une analyse détaillée des échantillons lors de la fabrication de photomasques. En outre, l'unité intègre une conception de chambre propre spéciale, qui assure une pression étanche uniforme tout en permettant de régler les débits de gaz en fonction des circonstances particulières. Cela permet aux utilisateurs d'adapter facilement la machine pour diverses applications, telles que l'exposition partielle. Ces caractéristiques s'accompagnent d'une gamme d'opérations automatisées pour un alignement et une focalisation précis, y compris un autofocus objectif, un zéros automatique et un centrage automatique du réticule. Ces capacités intelligentes aident les utilisateurs à positionner avec précision les plaquettes pour une exposition optimale avec un minimum d'effort. Dans l'ensemble, NES1 H04 offre des capacités avancées pour obtenir des résultats lithographiques supérieurs, réduisant considérablement le temps et le coût de fabrication des photomasques et offrant aux utilisateurs le plus haut niveau de performance et de fiabilité.