Occasion NIKON NES1 H4 #9239624 à vendre en France

NIKON NES1 H4 est un pas semi-automatisé de haute précision utilisé dans la production de substrats de plaquettes semi-conductrices. Le pas de plaquette H4 offre un rendement élevé et une précision supérieure à 10 μ m et mieux. Il est équipé d'une variété de caractéristiques et est utilisé depuis plus de 15 ans dans l'industrie des semi-conducteurs. NES1 H4 est un pas à champ unique d'une taille de champ de 56,4 x 56,4 mm et d'une taille maximale de 25,4 x 25,4 mm. Le stepper est équipé d'un étage de rotation multi-motifs (MPRS) pour un alignement de précision à 360 degrés. Le pas de plaquette H4 a une résolution maximale de 0,1 μ m sur une plage de 500 mm. Le stepper est équipé d'un équipement d'alignement/exposition composé d'un microscope de placement, d'un capteur de déplacement laser et d'un processeur d'amélioration de l'alignement. Il dispose également d'une lentille de projecteur de haute précision, d'un alignement d'échantillonnage et d'un contrôle de polarisation du faisceau. NIKON NES1 H4 a une gamme de longueurs d'onde qui supporte l'utilisation à la fois de l'ultraviolet profond (DUV) et de la lithographie de l'ultraviolet extrême (EUV). Le stepper est compatible avec les lasers i-line et KrF, et il est conçu pour fonctionner avec jusqu'à quatre sources laser différentes. Le stepper est également équipé d'outils logiciels et matériels pour réduire la distorsion optique, l'uniformité des champs et la qualité d'impression. Le pas de plaquette est capable de manipuler une variété de substrats de plaquette tels que des photomasques monobloc et double face, des dispositifs montés en surface et des dispositifs sans bavure métal-isolant-métal (MIM). Il est également capable de modeler un large éventail de substrats avec une grande précision. En outre, NES1 H4 dispose d'une variété de modes d'amélioration des fonctionnalités qui le rendent capable de produire des structures rigides et sous-microns avec une variation minimale de l'angle de paroi, ainsi qu'une précision de recouvrement supérieure, une focalisation uniforme et un débit plus élevé. En ce qui concerne les mesures de sécurité, NIKON NES1 H4 est conçu pour être conforme aux normes de sécurité de l'Organisation internationale de normalisation (ISO). Le système d'interception du stepper protège contre l'exposition au laser imprévue et ses dispositifs de prévention de la poussière réduisent le risque de contamination. Le revêtement protecteur sur le stepper évite les dommages dus aux rayonnements ionisants, et l'EEPROM de l'unité est conçu pour protéger contre les interférences électromagnétiques. Dans l'ensemble, NES1 H4 wafer stepper est une technologie de pointe qui fournit une précision supérieure, un rendement élevé, et la fiabilité. La machine est capable de modeler avec précision un large éventail de substrats et est conçue avec une variété de caractéristiques de sécurité pour des opérations de production plus sûres.