Occasion NIKON NES1W-i06 #293817960 à vendre en France
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ID: 293817960
Stepper
Numerical Aperture (NA): 0.13
Resolution: 2000 nm
DCO: 300
Throughput (WPH): 96.
NIKON NES1W-i06 est un pas de plaquette très avancé conçu spécifiquement pour l'industrie des semi-conducteurs. C'est un outil crucial utilisé dans le processus de photolithographie pour la fabrication de semi-conducteurs. Ce pas de plaquette est équipé d'une technologie de pointe et de caractéristiques qui permettent une fixation précise sur les plaquettes, garantissant la production de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité. NES1W-i06 excelle en fournissant une résolution et une précision supérieures, qui sont des qualités essentielles pour produire des motifs complexes sur les plaquettes semi-conductrices. Il utilise un équipement optique sophistiqué qui peut atteindre une résolution de sous-microns, répondant aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs pour les appareils de nouvelle génération. Le stepper est capable de produire des motifs complexes avec une grande fidélité, assurant des performances cohérentes et fiables sur plusieurs plaquettes. Une des caractéristiques clés de NIKON NES1W-i06 est son système d'alignement avancé. L'alignement est une étape critique du processus de photolithographie car il garantit que les multiples couches de motifs sont précisément alignées les unes avec les autres. Le stepper utilise une technologie d'alignement propriétaire qui permet une précision de niveau micron, ce qui entraîne une superposition précise des motifs et minimise les problèmes de désalignement des motifs. NES1W-i06 est également équipé d'un étage de haute précision qui permet un positionnement précis de la plaquette pendant le processus d'exposition. La machine à étages offre une stabilité et une répétabilité exceptionnelles, garantissant que chaque exposition est effectuée avec la plus grande précision. Ce niveau de contrôle sur le positionnement des plaquettes est crucial pour atteindre la qualité de motif et la cohérence souhaitées entre les plaquettes. En plus de ses capacités techniques, NIKON NES1W-i06 offre une interface conviviale qui simplifie le fonctionnement et la maintenance. Le stepper est équipé d'un logiciel intuitif qui permet aux opérateurs de configurer et de contrôler facilement le processus d'exposition. Il dispose également de capacités automatisées d'étalonnage et d'autodiagnostic, réduisant les temps d'arrêt et améliorant la productivité globale. En outre, NES1W-i06 est conçu pour répondre aux exigences exigeantes de la fabrication de semi-conducteurs à haut volume. Il est construit avec des composants robustes et une architecture fiable qui assure la performance et la stabilité à long terme. L'outil de refroidissement avancé du stepper permet également de maintenir des conditions de fonctionnement optimales, assurant des performances constantes même lors d'un fonctionnement prolongé. Dans l'ensemble, NIKON NES1W-i06 établit une nouvelle norme pour les paliers de plaquettes dans l'industrie des semi-conducteurs. Sa technologie de pointe, ses capacités de précision et sa conception conviviale en font un outil précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des motifs de haute qualité sur les plaquettes. Avec sa résolution supérieure, sa précision d'alignement et sa construction robuste, NES1W-i06 est une centrale dans le domaine de la photolithographie, qui stimule l'innovation et l'excellence dans la fabrication de semi-conducteurs.
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