Occasion NIKON NSR 1505 G3A #9269127 à vendre en France

NIKON NSR 1505 G3A wafer stepper est un dispositif de pointe utilisé pour la lithographie photomasque. Ce dispositif garantit une grande uniformité de revêtement et une exposition supérieure grâce à son optique et à son design de pointe. Le NSR 1505 offre une imagerie supérieure des caractéristiques sur les photomasques de taille avancée, de 13 à 28 microns, offrant à l'utilisateur le plus haut niveau de détail et de clarté. En plus de ses capacités d'imagerie, le NSR 1505 possède également une excellente précision et stabilité. Il a une répétabilité pouvant atteindre 0,1µm, une distorsion maximale de 0,0005 % et une variation d'intensité maximale dans le champ de 0,05 %. En conséquence, les utilisateurs ont confiance que leurs plaquettes auront l'air parfaites, sans que le potentiel des plaquettes ait de légères variations. Le NSR 1505 a également une gamme de fonctionnalités pour faciliter le processus pour l'utilisateur. Il a un alignement automatique intégré pour augmenter le débit et la précision. Il dispose également d'un réglage antireflet et à faible diffusion pour améliorer la sensibilité à l'exposition et augmenter la répétabilité. Il dispose également d'un commutateur automatique qui aide à améliorer les performances et le confort de l'utilisateur. Ce modèle utilise des étages XYZ à double colonne NIKON et est contrôlé par un contrôleur de mouvement intégré, apportant une excellente vitesse, accélération et résolution à l'échelon. NIKON a également fourni AutoTracker AutoCalibration pour aider les débutants et les utilisateurs inexpérimentés que le logiciel intégré peut aider à détecter les aberrations dans le système d'imagerie, réduisant les erreurs d'exposition. Enfin, le NSR 1505 est également extrêmement efficace car il utilise des temps d'exposition plus courts avec une plus grande précision. Il a un système d'échappement de chambre dédié pour aider avec le contrôle de l'environnement ainsi. En tant que tel, c'est un dispositif de lithographie photomasque supérieur qui est idéal pour les applications industrielles et de recherche. Son imagerie supérieure, sa précision, ses caractéristiques et son efficacité en font un excellent choix pour tout utilisateur.