Occasion NIKON NSR 1505 G4C #293630450 à vendre en France

NIKON NSR 1505 G4C est une étape de lithographie optique de pointe conçue pour les applications de photolithographie les plus avancées dans l'industrie des semi-conducteurs. Il possède des capacités d'imagerie supérieures, une productivité élevée et un faible coût de possession. NIKON NSR 1505 G 4 C est conçu pour la production d'appareils à haute densité. Il a un champ d'exposition large de 6,4 pouces x 6,4 pouces avec une définition de bord d'imagerie supérieure. Il peut exposer avec précision et reproductibilité à 5 nanomètres de résolution. Il est capable d'imagerie de 0,25 micron à 0,50 micron. La norme NSR 1505 G4C incorpore une meilleure adhérence de la résine sur la plaquette pour permettre un meilleur débit et de meilleurs résultats en gravure sèche et humide. Son système de caméra à rayons G maintient une exposition constante et précise. La norme NSR 1505 G 4 C utilise une étape de nano-positionnement pour déplacer et aligner une plaquette. Il est capable de motifs avec des dimensions jusqu'à 1µm et sur une gamme de scan de 800 mm, offrant une précision et une précision inégalées. Le laser d'exposition intégré permet des temps d'exposition extrêmement rapides. Le NIKON NSR 1505 G4C est conçu pour des opérations multi-motifs avec une précision d'alignement inférieure à 2 nm. Il est équipé des dernières technologies telles que le chargement des réticules automatiques, la découpe automatique et l'exposition au verrouillage. Il a la capacité de traiter jusqu'à quatre réticules en un seul processus. Le NIKON NSR 1505 G 4 C peut être intégré à l'équipement de traitement par voie sèche et humide pour réaliser une lithographie entièrement automatisée. C'est un système de lithographie peu coûteux, performant et convivial. Il s'agit également d'une solution rentable pour les opérations multi-motifs en mode automatisé et manuel. NSR 1505 G4C est fiable, compact et conçu pour une productivité, un débit et une qualité optimaux. C'est un choix idéal pour le traitement avancé des plaquettes pour les applications les plus exigeantes telles que la fonderie, la logique et les dispositifs de mémoire.