Occasion NIKON NSR 1505 G4D #9226100 à vendre en France

NIKON NSR 1505 G4D
Fabricant
NIKON
Modèle
NSR 1505 G4D
ID: 9226100
Taille de la plaquette: 6"
Wafer steppers, 6".
NIKON NSR 1505 G4D wafer stepper est un système de photolithographie avancée conçu pour la fabrication de semi-conducteurs et de circuits intégrés. Il est capable de mettre en œuvre un large éventail de procédés tels que l'exposition, la résistance au revêtement et la résistance au développement. Le NIKON NSR 1505 G 4 D est équipé d'un étage de balayage biaxe de haute précision et d'une source laser ArF de 340 nm, 4 mJ, offrant jusqu'à 4 fois plus de photo-réponse et une précision d'enregistrement de recouvrement nettement améliorée par rapport aux sources laser classiques. La précision accrue des motifs d'exposition est utilisée pour produire des lignes et des motifs plus fins, permettant la production d'une plus grande gamme de composants avec une plus grande précision. NSR 1505 G4D a une distance de course maximale de 355 mm (14 "de diamètre) et une résolution minimale de 0,5 μ m. Le stepper a un accent extrême sur le contrôle et la précision des processus, ainsi qu'une interface conviviale, assurant que son fonctionnement est à la fois efficace et fiable. NSR 1505 G4D est compatible avec une large gamme de matériaux résineux, permettant de réaliser une variété de procédés de photolithographie. Ceux-ci comprennent : immersion liquide, micromachining avancé, SU-8, et la construction de phares. Le NIKON NSR 1505 G4D est adapté pour réaliser des motifs de haute précision dans la gamme de taille de 1 μ m à 200 μ m. Il est également capable de produire des motifs avec des différences dramatiques de forme et de taille, avec de petites caractéristiques telles que des lignes de 0,5 μ m et des espaces aux caractéristiques à grande échelle de jusqu'à 20mm de diamètre. Pour protéger la surface de la plaquette, NIKON NSR 1505 G 4 D comprend un système de vide avancé qui maintient activement un environnement propre, ainsi que des systèmes de contrôle de la température et de l'humidité qui aident à protéger la plaquette contre le photoblissage et d'autres défauts. En plus de sa précision et de sa fiabilité, NSR 1505 G4D dispose également d'un temps d'exposition rapide et de capacités de traitement à grande vitesse qui permettent une production à haut volume. Le stepper intègre une gamme de systèmes de sécurité pour minimiser l'exposition éventuelle aux rayonnements pour les opérateurs et autres personnels. En conclusion, NSR 1505 G4D est un système de photolithographie de pointe conçu pour être utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Ce pas de plaquette avancé offre une grande précision, des modèles d'exposition de haute qualité et une capacité accrue, permettant une plus grande gamme de composants à produire. Il offre toute une gamme de caractéristiques de protection de l'environnement et de mesures de sécurité, et ses capacités d'exposition rapide et de traitement à haute vitesse stimulent l'efficacité et la fiabilité.
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