Occasion NIKON NSR 1755 G7A #9227621 à vendre en France

NIKON NSR 1755 G7A est un pas de plaquette de pointe conçu pour le développement et la fabrication de photomasques de pointe. L'équipement offre une qualité d'imagerie photomasque supérieure, un débit élevé et un faible coût de possession. Il est capable de délivrer jusqu'à 175 mm de champs de balayage. Le système offre une large gamme de variations d'exposition avec une résolution inférieure à 1,00 nm. Il offre également une flexibilité maximale pour l'utilisateur de produire des photomasques avec précision et haut débit. NIKON NSR-1755G7A est équipé d'un étage de balayage compact à colonne unique et d'une unité optique de haute précision qui permet un alignement rapide et précis du masque et de la plaquette. Il est équipé d'une source d'éclairage à longue durée de vie composée d'une lumière xénon et d'une machine optique à mouvement de précession qui est capable de scanner la lumière hémi-sinusoïdalement. Ceci assure un haut débit et un éclairage uniforme. Le wafer stepper dispose également de la technologie unique NIKON Scanning Laser Interferometer (SLI) pour une précision et une répétabilité sans précédent dans un outil pas à pas. Cet actif optique de haute précision mesure le déplacement positionnel par interférence de la lumière laser, offrant ainsi un niveau de précision supérieur sur divers environnements d'exposition. En outre, le modèle est conforme à la norme internationale de lithographie CAO (CLIP), qui facilite l'interface avec d'autres composants de la plateforme litho NIKON NSR. Il prend également en charge une multitude de technologies de processus de lithographie telles que l'imagerie Darkfield, l'impression par contact, la découpe de masque par balayage laser et le balayage de substrat. Les capacités avancées de traitement d'image de l'équipement assurent une détection, une caractérisation et une reconstruction de haute précision des défauts lithographiques et d'autres caractéristiques critiques. En outre, NSR-1755 G7A offre également une interface graphique permettant un fonctionnement facile. Il est équipé d'un éditeur de séquences multi-langues (OPL) pour répondre à diverses exigences de processus. Le système comporte de multiples options de fonction telles que la détection automatique de fausses alarmes, l'adaptation des réticules, une meilleure tolérance d'alignement et un pré-alignement de faible puissance. Dans l'ensemble, NSR 1755 G7A est un pas de plaquette avancé, conçu pour répondre aux exigences des processus de développement et de fabrication de photomasques plus exigeants d'aujourd'hui. Sa précision optique supérieure, son débit élevé et son faible coût de fonctionnement en font une solution idéale pour les besoins avancés en lithographie.