Occasion NIKON NSR 1755 i7A #293681790 à vendre en France

NIKON NSR 1755 i7A est un pas de plaquette conçu pour des applications de lithographie haute puissance. Il présente une planéité de champ de 8,5 pouces (22 cm), une NA de 0,75 et une taille maximale du substrat de 300 mm. Il peut gérer des résolutions d'exposition de 2,5 μ m et plus et il est capable d'exposer les appareils à une précision de haut niveau de 0,5 μ m. NIKON NSR 1755I7A est conçu avec une capacité d'imagerie qui permet des processus de lithographie sur une variété de substrats, tels que le silicium, le quartz, la céramique et la feuille métallique. Il permet une fenêtre de processus très robuste et la flexibilité dans les conditions d'exposition. Les capacités de répétition de NSR-1755I7A sont utilisées pour produire des produits de lithographie très précis avec des résultats reproductibles. Il dispose de l'équipement de contrôle d'ouverture logique (LACS) pour s'assurer que chaque champ possède la taille d'ouverture nécessaire, éliminant les erreurs d'échelle et de rotation. De plus, son système d'échange de réticules coordonné (SCREX) permet l'échange de réticules sans alignement, réduisant le temps nécessaire pour effectuer la lithographie. Le NSR 1755 I 7 A offre également une variété de modes d'exposition qui permettent un contrôle précis de l'exposition, y compris le balayage continu, le balayage et la rotation, le balayage et l'exposition séquentielle. En outre, son étage de grande précision et de grande surface permet une utilisation maximale du substrat, et réduit sensiblement les temps de cycle pour les processus de fabrication des emballages au niveau des plaquettes. De plus, NIKON NSR-1755I7A dispose d'une machine intuitive Multi-Layer Exposure (MLEX). Il s'agit d'un outil de lithographie qui peut exposer plusieurs matériaux et substrats simultanément, créant des structures complexes en une seule exposition, tout en maintenant le dosage et le profil d'exposition uniformes et précis. Il est conçu avec un écran LCD de 9 pouces, offrant une gamme d'ajustements pour l'exposition au réglage fin, y compris la vitesse, la dose, le temps de pré-exposition, et le comptage de répétition. NSR 1755 i7A a un débit élevé avec sa faible consommation d'énergie et son actif avancé pour le contrôle des moteurs pas à pas. Le Multi Operation Manager (MOM) est conçu pour assurer un contrôle ordonné et lisse du flux du processus d'exposition, permettant un fonctionnement plus précis, des temps de montée plus élevés et des temps de cycle plus courts. En outre, il fonctionne automatiquement tous les processus de routine et ajuste automatiquement sa vitesse et ses paramètres d'exposition. Dans l'ensemble, NSR-1755 I 7 A est une solution fiable et puissante pour les systèmes de lithographie avancés. Il est conçu pour garantir des performances d'exposition maximales, la précision et la fiabilité pour divers substrats et types de matériaux. Son modèle intuitif d'exposition multicouche et son gestionnaire d'exploitation simple permettent des processus de production plus efficaces, ce qui réduit les temps de cycle et augmente le débit.