Occasion NIKON NSR 1755 i7A #9062547 à vendre en France

NIKON NSR 1755 i7A est un pas de tranche de haute précision, spécialement conçu pour des applications de recherche et développement. Son équipement d'alignement 5 axes assure un positionnement optimal et un balayage précis des plaquettes avec une résolution allant jusqu'à 1 nanomètre. Il dispose de deux sources de lampe de 5,5 kW et d'un illuminateur de 5 ″ NA 0,45 pour un haut débit. La principale caractéristique du système est le réglage gamma élevé de 35 pouces, la taille maximale de photorésistance au sol de 17,55 pouces, et la précision de position exceptionnelle de 10 nanomètres le long des axes X et Y. NIKON NSR 1755I7A est supérieur en débit et en précision de position. Il dispose également d'un temps d'exposition ultra-court de 0,5 ms, ce qui maintient de façon stable le niveau de sortie de l'énergie d'exposition contre les changements dans les paramètres du filtre de densité neutre (ND). Cela permet une exposition plus précise et à plat avec des résultats cohérents. NSR-1755I7A dispose de quatre paramètres de contrôle anti-réflexion pour permettre l'optimisation de ses performances. Il dispose également d'un scanner 3D avec des capacités d'inclinaison et de torsion, permettant un balayage de haute précision sur des plaquettes aux dimensions rigides. L'unité bénéficie également de sa redondance intégrée, qui fournit un degré de fiabilité plus élevé lors de la fabrication de dispositifs avec des largeurs de lignes fines, évitant les cas de distorsions de motifs. En termes d'imagerie, NIKON NSR 1755 I 7 A est équipé d'une machine de capture d'image numérique avancée qui permet l'utilisation de l'imagerie en champ sombre avec d'excellentes performances. L'outil fournit également un enregistrement d'alignement de haute précision, ce qui le rend adapté à des applications telles que la mesure de superposition, la métrologie et l'inspection. NSR-1755 I 7 A est un excellent atout pour ceux qui recherchent un débit supérieur, une précision de position, une fiabilité et des capacités d'imagerie. Compte tenu de son faible coût de propriété et de sa facilité d'utilisation, il s'agit d'une plate-forme idéale pour des applications lithographiques avancées dans divers domaines de recherche et développement tels que les photomasques, les dispositifs semi-conducteurs et les MEMS.