Occasion NIKON NSR 1755 i7A #9212123 à vendre en France
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Vendu
ID: 9212123
Taille de la plaquette: 6"
Stepper, 6"
Chamber
Type: ASAHI S75
Set temperature: 24°C
FIA
PLC Type: MITSUBISHI MELSEC F1-60MR
Reticle microscope: 17.5 mm Variable
Reticle size: 5"
HP Laser:
5517 A
5 mW
ITV Camera: Custom
OF Detection type: NIKON
OF Sensor and OF ud motor: Normal 3.1:1
Wafer loader type: Type 1
Wafer condition: Silicon
Wafer carrier table: Right / Left
Rack type: Right
Does not include Electric source Nema box.
NIKON NSR 1755 i7A est un outil de production de pointe pour la photolithographie. Il s'agit d'un pas de tranche de haute précision qui peut produire des caractéristiques avancées à un et deux niveaux aussi petites que 0,025 µm de taille. La conception intégrée de l'équipement allie haut débit, puissance de traitement et stabilité pour une fabrication à haut volume de production avec une perte de rendement extrêmement faible. La précision de recouvrement et d'enregistrement du nanomètre assure un excellent contrôle de la largeur de la ligne et l'uniformité de la filière. Au cœur du système se trouve le robot à six axes de haute précision, qui maintient la précision du nanomètre tout en offrant une accélération maximale de 6G. Il est capable d'une répétabilité de la trace à la trace inférieure à 1nm. Le robot est en outre intégré avec un changeur de photo-masque haute vitesse et un substrat et un alignement de masque haute précision pour minimiser les temps de montage. D'autres caractéristiques de NIKON NSR 1755I7A comprennent une unité d'alignement automatique variable, qui maintient avec précision l'alignement et la qualité de mise au point, et une machine d'exposition à grande sensibilité et à large portée avec une plage dynamique de 2 ordres de grandeur. Il est également évolutif et évolutif pour répondre aux besoins futurs. NSR-1755I7A est conçu pour des temps de cycle longs et un large éventail de substrats. Il est conçu pour traiter en toute sécurité entre 55 et 253 mm de plaquettes et peut fonctionner à des températures aussi basses que 16 ° C pour assurer un minimum de retrait sur les bords. Il est également capable de traiter jusqu'à 30 expositions par plaquette, réduisant les temps de cycle globaux. Le NIKON NSR-1755 I 7 A riche en fonctionnalités en fait un choix privilégié pour de nombreuses applications de photolithographie, y compris les MEMS, les dispositifs optoélectroniques et les semi-conducteurs. Sa technologie de pointe et ses capacités de haute performance en font un excellent choix pour toute production de taille, du prototypage à la fabrication en plein volume.
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