Occasion NIKON NSR 1755 i7A #9247254 à vendre en France
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ID: 9247254
Stepper
Resolution: 0.5 µm
NA: 0.5
Exposure wave length: i-Line
Reduction: 1/5
Expose field: 17.5 x 17.5 - 13.4 x 20.1
Alignment accuracy: 0.12 (|x|+3s).
Le NIKON NSR 1755 i7A est un équipement haut de gamme pour pas de plaquettes optimisé pour le développement et la fabrication de modèles complexes à micro-échelle. Il a une résolution maximale de 0,3 µm, et peut traiter des substrats aussi grands qu'un diamètre de 200 mm. L'étape utilise la technologie brevetée NIKON N-Tilt stage, qui permet de contrôler l'alignement de haute précision de la plaquette pendant l'exposition. NIKON NSR 1755I7A dispose également d'une technologie d'information X/Y qui améliore la précision de l'imagerie. L'optique d'imagerie fournit un motif de réduction de 0,14x et 0.4Gbps de débit. NSR-1755I7A est alimenté par deux ordinateurs puissants, un pour le système de contrôle et un pour l'unité de traitement et de calcul de l'image. La machine de contrôle offre une variété de capacités de programmation telles qu'une paire de macros pour l'optimisation automatique des processus. De plus, NIKON NSR-1755 I 7 A est capable de 288 canaux binaires de commande et de neuf axes de mouvement. L'outil comprend également un dispositif de contrôle de vitesse de filière pour le placement précis de puces défectueuses. Une unité d'auto-alignement de substrat assure un alignement précis entre le substrat et le masque d'exposition. NSR-1755 L'actif d'exposition conforme de I 7 A a un taux de débit élevé et un rendement moyen supérieur à 99 %. NSR 1755I7A est également équipé d'un modèle de photo-alignement linéaire de haute précision. Il dispose d'un traceur d'exposition haute vitesse, et est équipé d'un équipement de traitement d'image en temps réel. Le stepper supporte également un système embarqué pour l'examen des défauts et une unité d'offre et d'acceptation continue qui permet à la machine de traiter plusieurs expositions. En outre, NSR 1755 I 7 A a une variété de fonctionnalités avancées qui optimisent le processus d'exposition. Ses fonctions x-shift et y-shift permettent un positionnement précis du masque par rapport au substrat, tandis que sa fonction de compensation de focalisation différentielle (DFC) compense automatiquement le bruit, la focalisation et la distorsion. Sa fonction d'affichage automatique compense automatiquement les erreurs de dimension critique sur les plaquettes. Enfin, ses caractéristiques de conception avancées permettent une précision d'alignement allant jusqu'au 1/100ème de micromètre et une commande maximale en 3D en Z.
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