Occasion NIKON NSR 1755 i7A #9256260 à vendre en France

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NIKON NSR 1755 i7A
Vendu
Fabricant
NIKON
Modèle
NSR 1755 i7A
ID: 9256260
Taille de la plaquette: 4"-8"
Style Vintage: 1992
i-Line stepper, 4"-8" Reticle, 5" Thickness: 0.09" Material: Quartz glass / Low-expansion glass Type: Low-reflection chromium mask (Single layer chromium also acceptable) Resolution: 0.50 µm Lens distortion: ±0.07 µm Magnification control: ±0.03 µm Maximum exposure area: 24.74 mm dia Reticle bind setting accuracy: +0.4 +0.8 mm Exposure power: 600 mW / cm³ Integrated exposure stability: ±1.4% Illumination uniformity: ±1.5% Focus calibration repeatability: Within 0.15 µm Reduction ratio: 5:1 Field: 17.5 O.45 Resolution (NA): 0.5 Global alignment: 0.18 um Reticle rotation: Absolute value: Within ±0.02 µm of target value Repeatability: Within 0.02µm Alignment accuracy: WGA X+3ơ ≤ 0.18 µm EGA X+3ơ ≤ 0.11 µm Array orthogonality: ±0.2 Sec Stepping precision: 0.8 µm (3s) Reticle pre-alignment accuracy: ±2 mm Interchangeability: ±0.12 µm Stepping rate: <11 Sec (100 mm) <20 Sec (125 mm) <28 Sec (150 mm) Throughput: WGA: <21 min (125 mm) <21 min (125 mm) <22 min 40 sec (150 mm) EGA: <21 min (125 mm) <21 min 15 sec (125 mm) <24 min 50 sec (150 mm) 1992 vintage.
Le NIKON NSR 1755 i7A est un équipement de pas de plaquettes haute performance conçu pour les applications de lithographie de plaquettes simples. Il est équipé de NIKON dernière génération de NIKON Semiconductor Lithography Optics (NSL Optics), qui utilisent une technologie d'imagerie ultra-précise pour permettre la fabrication précise de motifs complexes de circuits intégrés (IC). NIKON NSR 1755I7A est construit sur la plate-forme NIKON « i », ce qui donne à l'étape de la plaquette une stabilité et une précision supérieures pour la lithographie d'une seule plaquette. La plate-forme i utilise un moteur pas à pas de haute précision à entraînement direct pour déplacer l'étage de plaquette et améliorer encore la précision et la stabilité du système. La plate-forme comprend également une unité de commande d'accélération à grande vitesse pour la reconnaissance rapide des motifs et l'adaptation de phase. La machine est équipée de deux systèmes avancés de lithographie optique à semi-conducteur NIKON (NSL Optics), offrant des performances supérieures et une haute résolution pour l'exposition des motifs 2D et 3D IC. Les systèmes optiques avancés ont une large gamme de résolution, allant de 0,2 micron (2 nm) à 20 microns (200 nm). En outre, l'outil peut être configuré avec plusieurs options différentes d'éclairage, y compris Constant K, Étalonné K, et Intensité K illumination. Pour une précision et une fiabilité répétables, NSR-1755I7A intègre un atout avancé d'auto-alignement. Le modèle d'auto-alignement peut reconnaître avec précision la position de la plaquette et l'aligner avec l'optique d'imagerie sans avoir besoin d'une intervention manuelle dans l'alignement. Cela permet de réduire le nombre d'erreurs d'alignement et de réduire le temps nécessaire au placement de la plaquette. Le NIKON NSR 1755 I 7 A est également équipé d'un équipement de manutention rapide des plaquettes, qui assure un échange rapide des plaquettes à des taux allant jusqu'à 2,5 plaquettes par seconde. Cela aide à réduire le temps de processus et fournit un débit énorme tout en maintenant une grande précision. En outre, le stepper est également équipé d'un système de diagnostic de processus, qui permet de détecter rapidement les défauts et les anomalies lors de l'exposition des plaquettes. Dans l'ensemble, NSR-1755 I 7 Un pas de plaquette est une unité avancée qui fournit des performances supérieures pour une lithographie de plaquette simple. Il est conçu pour une haute répétabilité et précision et offre une large gamme de résolution et de support d'éclairage. L'automatisation avancée et les diagnostics de processus garantissent que la machine peut fournir des modèles IC fiables et sans défaut avec un débit optimal.
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