Occasion NIKON NSR 1755 i7B #9165599 à vendre en France

NIKON NSR 1755 i7B wafer stepper est un outil révolutionnaire qui révolutionne l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs en fournissant des procédés inégalés pour l'alignement de haute précision et la lithographie. Le pas a un déflecteur à balayage électronique avec une précision de déflexion de 0,6 μ m et une vitesse de balayage maximale de 1,5 kHz, capable d'offrir une stabilité de processus et une qualité d'image exceptionnelles. Le système à 7 axes et 2 colonnes assure également la précision de l'alignement dans un rayon de 0,7 μ m, ce qui garantit que les plaquettes sont alignées avec la plus grande précision. Le lecteur moteur In-Deflection Axis Scanning permet un contrôle direct très précis de l'étage monobloc pour le balayage au niveau du nanomètre. Son haut rendement permet également des temps de cycle rapides de 1,5 seconde par plaquette. NIKON NSR-1755I7B a également une résolution leader de l'industrie de 0,33 μ m, couvrant presque 2,6 x la gamme d'un pas de plaquette classique typique. Cette résolution peut être facilement mise en oeuvre pour aligner avec précision les motifs photomasques avec les motifs de transistor haute densité sur les substrats de la plaquette. L'instrument est équipé d'un programme automatisé de centrage 4 axes qui centre automatiquement et précisément chaque plaquette par rapport aux axes X et Y de l'étage X-Y. Ce programme de centrage peut traiter un maximum de 8 pouces de tailles de plaquettes sans trous ou marques d'alignement, et peut être programmé pour effectuer le centrage manuel et semi-automatique. NSR 1755 i7B possède un logiciel d'interface ouverte qui permet la personnalisation et l'optimisation de processus tels que la saisie de données, le traitement d'images de plaquettes, les procédures d'alignement et la précision de répétition. Ce logiciel fournit également un environnement d'exploitation piloté graphiquement qui simplifie les processus de wafer et de photomask. Dans l'ensemble, NSR-1755I7B est un pas de plaquette révolutionnaire offrant une précision supérieure dans l'alignement des plaquettes. Il fournit une imagerie cohérente à haute résolution, permettant des temps de cycle plus courts, des rendements plus élevés et une production plus performante.