Occasion NIKON NSR 1755 i7B #9261834 à vendre en France

NIKON NSR 1755 i7B est un marchepied de wafer de pointe fabriqué par NIKON Corporation. L'équipement a un diamètre de poutre de 0,33mm et une taille de motif de 300mm × 300mm, ce qui le rend idéal pour une large gamme d'applications. Spécifiquement, NIKON NSR-1755I7B est capable de produire des dessins de lithographie sur les photomasques et les gaufrettes, aussi bien qu'exécuter l'inspection de défaut de gaufrette critique et l'ingénierie inverse. Le NSR 1755 i7B est équipé d'une série d'optiques avancées, offrant une résolution inférieure à 1,6 micron et une répétabilité allant jusqu'à 10 mm. Cela permet d'utiliser le système à la fois pour la photolithographie de production et l'inspection des réticules. Parmi les principales caractéristiques de l'unité, mentionnons les domaines d'intérêt de taille variable, les paramètres de numérisation multiples, la capacité de focalisation automatique et la capacité de capturer des images dynamiques. En ce qui concerne les capacités d'imagerie, NSR-1755I7B est capable de produire des images à haute résolution et à fort grossissement. Ceci est réalisé avec un réseau de 510nm d'énergie LED de longueur d'onde. La machine est également capable de réaliser des autofocus bidimensionnels ou tridimensionnels. L'outil est également très fiable. Il dispose d'une carte de traitement d'images, qui permet jusqu'à 500 images par seconde, et d'un axe d'asservissement de balayage pour assurer des résultats précis et cohérents. En outre, l'actif peut être programmé de sorte qu'il puisse capturer et analyser l'imagerie haute vitesse à des fins d'ingénierie inverse. De plus, le NIKON NSR 1755 i7B est équipé de dispositifs de sécurité avancés. Il dispose d'un capteur de particules aéroporté dédié pour détecter les contaminants qui pourraient endommager le modèle. L'équipement dispose également d'un bouton d'arrêt d'urgence pour plus de sécurité. Dans l'ensemble, NIKON NSR-1755I7B est un marchepied puissant et fiable capable de répondre aux besoins de n'importe quel environnement de recherche ou de production. Son optique avancée et ses capacités d'imagerie en font un choix idéal pour produire des motifs de photolithographie de haute qualité, ainsi que pour l'ingénierie inverse et l'inspection des défauts. Ses caractéristiques de sécurité robustes garantissent en outre que les résultats seront fiables et reproductibles.