Occasion NIKON NSR 1755 i7B #9268107 à vendre en France

Fabricant
NIKON
Modèle
NSR 1755 i7B
ID: 9268107
Taille de la plaquette: 6"
Stepper, 6" Flat wafer ASAHI S78 Chamber PLC Type: MELSEC F1-60 MR, F1-60 ER Variable reticle microscope: 15 mm and 17.5 mm AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT 5517A Laser LSA Laser: 5 mW ITV Camera: RA CCD XC-77 Silicon wafer OF Sensor: NIKON UD Motor: 5.44:1 Wafer loader type: Type 1 No in-line Wafer carrier table: Left and right FIA Reticle, 5" Reticle case: 26 mm (13) Reticle slots No PPD / PD Rack type: Right Chamber temperature: Chamber: 23°C LATC: 22.6°C Power: 200 V, 3-Phase, 4 Wires, 75 Amps.
NIKON NSR 1755 i7B est un pas de plaquette de pointe conçu pour offrir une photolithographie exceptionnellement précise pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce modèle dispose d'un système avancé de lithographie par faisceau d'électrons (EBL) permettant des résolutions de caractéristiques supérieures jusqu'à 0,01 μ m. Il est équipé d'un cadre lourd pour un alignement précis des étages et intègre la dernière technologie NIKON Scan Angle Control (NSC) pour une meilleure précision de positionnement des plaquettes. De plus, NIKON NSR-1755I7B wafer stepper est en mesure de réaliser directement-descendre-à-substrat à une vitesse d'acquisition inégalée allant jusqu'à 1,0 sec/die - éliminant le besoin de longs temps d'exposition. Le système avancé EBL offre également une résolution imbattable, un balayage à grande vitesse et une excellente précision d'alignement des étages. Ce modèle comprend un haut débit, un scanner de grande surface et un système optique haute tension unique pour un balayage rapide et une superposition optimisée des motifs. La communication à grande vitesse entre l'unité de contrôle EBL et l'étape de la plaquette NSR 1755 i7B permet à l'opérateur de contrôler avec précision plusieurs étapes de processus, telles que le maintien en position lors de longues expositions, le réglage de la vitesse et de la taille du motif, et d'autres paramètres de prétraitement de la plaquette. NSR-1755I7B wafer stepper dispose également de capacités avancées de serrage de plaquettes qui permettent des réglages précis et des changements rapides lorsque contestés par différents substrats. Ses systèmes d'entraînement de haute précision augmentent la précision et la stabilité de l'enregistrement dans un large éventail de conditions de fonctionnement. Le modèle fournit également une fonction d'alignement automatisée avec translation de motifs et réglages d'échelle, et utilise un détecteur de bord unique pour localiser rapidement la plaquette sous un microscope. Finalement, NIKON NSR 1755 i7B wafer stepper fournit la précision et le débit de pointe de l'industrie, ce qui en fait un choix idéal pour la fabrication d'appareils à grande et à petite échelle. Les capacités de balayage rapide du modèle, la grande variété de lithographies et les réglages de scène ajustables lui donnent la flexibilité nécessaire pour une large gamme de procédés avancés de fabrication d'appareils. Son interface conviviale le rend facile à utiliser, tandis que sa résolution de motif supérieure et ses performances de processus supérieures en font le choix idéal pour toute application pas à pas de plaquette.
Il n'y a pas encore de critiques