Occasion NIKON NSR 1755 i7B #9279749 à vendre en France
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ID: 9279749
Taille de la plaquette: 6"
Stepper, 6"
Wafer type: Flat
Wafer loader type: Type I
Leveling system: Claw sub-system
Arm
Main body with chamber
Monitor
RA Microscope
Reticle loader:
Mask, 5"
Arm
Reticle library: Single film
13-Slot
Wafer stage:
Chuck, 6"
LC Mirror.
NIKON NSR 1755 i7B wafer stepper est une série haute performance d'équipement de lithographie conçu pour fournir des capacités de fabrication améliorées pour la production de dispositifs semi-conducteurs. Ce système est une plate-forme de lithographie complète avec un scanner de quatrième génération, un système de contrôle de lithographie entièrement intégré, et une suite de processus de lithographie avancés. Il utilise une architecture brevetée à deux étages qui permet une haute précision de recouvrement et la détection des défauts. NIKON NSR-1755I7B est équipé d'une optique de pointe qui permet une mise au point précise, la reconnaissance des caractéristiques et l'alignement des plaquettes. L'optique est également optimisée pour une longue distance de travail et une faible raideur, ce qui garantit l'absence d'artefacts dus à l'aberration. La plate-forme de lithographie avancée est capable de délivrer des temps d'exposition aussi rapides que 10ms, permettant un débit plus élevé tout en maintenant une qualité d'image supérieure. NSR 1755 i7B est pré-configuré avec les algorithmes de lithographie les plus avancés de NIKON tels que Impulsive Pattern Generator (IPG), Multi-Circle Exposure (MCE), et Scan Matching Algorithm (SMA). Ces algorithmes permettent une utilisation optimale des ressources d'exposition, ce qui se traduit par des temps de débit plus courts. Le pas de plaquette offre également le temps de reconnaissance de motif le plus rapide, réduisant ainsi le temps de nettoyage du substrat et assurant des rendements élevés. En outre, NSR-1755I7B comprend un système intégré de gestion des lots qui fournit un moyen sûr et fiable de suivre les plaquettes et les données d'assemblage/inspection. Il dispose également d'une interface utilisateur très intuitive qui simplifie les opérations de lithographie et assure un contrôle optimal des processus. Ce pas de plaquette est conçu pour la production de semi-conducteurs à haut volume et à haut mélange, ce qui lui permet d'être utilisé dans un large éventail d'applications. NIKON NSR 1755 i7B fournit des capacités précises d'écriture directe et d'alignement pour les processus de lithographie avancés. Grâce à sa grande vitesse et à sa précision, il est idéal pour une production à haut volume, et ses caractéristiques avancées lui permettent d'être bien adapté à la fabrication d'appareils complexes. Enfin, la machine est également très fiable et conviviale, ce qui en fait un choix populaire pour les institutions lithographiques du monde entier.
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