Occasion NIKON NSR 2005 i10C #293591969 à vendre en France
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NIKON NSR 2005 i10C wafer stepper est un équipement d'alignement de précision conçu pour l'industrie de la lithographie. Il dispose de la technologie in-lens la plus récente et d'un système d'imagerie qui peut fournir une ultra-haute résolution avec une grande distance de travail. NIKON NSR 2005I10C est un modèle haut de gamme de la gamme de marches NIKON JEDM. Il est extrêmement puissant et fiable, bénéficiant d'un débit amélioré et d'une plus grande précision. Le stepper est équipé d'une optique DUV de 10 pouces, d'un champ de vision de 14,5 mm x 18mm et d'une distance de travail de 287 mm. Cette combinaison d'optique, de taille de champ et de distance de travail permet à l'étape de produire une grande précision avec un minimum d'aberrations. Le stepper dispose d'une machine mécanique de haute précision avec un étage piézo-entraîné direction Y et un étage automatique de direction X. Les mouvements de scène sont précis à moins d'un micron et peuvent être utilisés pour effectuer des tâches de lithographie complexes. Le stepper est équipé du dernier outil d'imagerie NIKON, qui comprend un CCD JPEG de 14 mégapixels, un actif de zoom optique motorisé, un modèle d'autofocus intégré, un équipement d'amélioration du contraste et un filtre de diffusion réglable. Ce système d'imagerie fournit une résolution allant jusqu'à deux μ m et une précision d'échantillonnage de 0,5 μ m par carré. NSR-2005I10C est conçu pour être convivial et équipé de nombreuses fonctionnalités d'automatisation avancées. Il dispose d'une unité intégrée de surveillance de l'état du travail, d'un calculateur autofocus et d'une machine de traitement d'image qui peut réduire les aberrations. En outre, le pas de plaquette peut être équipé d'une large gamme d'accessoires tels que des porte-plaquettes, des capteurs d'images de contact et des microscopes, de sorte qu'il peut s'adapter à tout type d'application de lithographie. NSR 2005I10C est un pas de plaquette puissant et fiable qui a été conçu pour fournir des images ultra haute résolution avec un minimum d'aberrations et une grande distance de travail. Son outil mécanique et optique de haute précision et ses fonctionnalités d'automatisation avancées le rendent idéal pour des tâches de lithographie complexes.
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