Occasion NIKON NSR 2005 i10C #9227509 à vendre en France

NIKON NSR 2005 i10C est un pas de lithographie conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il est capable de produire des motifs très détaillés dans une grande variété de matériaux, y compris le silicium, l'arséniure de gallium, les alliages métalliques et d'autres matériaux semi-conducteurs et diélectriques. Le i10C utilise une technologie pas à pas, qui permet de modeler de façon répétable et précise des conceptions complexes sur des substrats. En technologie pas à pas, le motif est gravé sur une plaquette ou un substrat à l'aide d'un faisceau de lumière ultraviolette ou d'un faisceau d'électrons ou d'ions. En lithographie, un faisceau de lumière ou d'électrons est dirigé et focalisé à travers un masque sur un substrat ou une plaquette. La lumière ou les électrons qui traversent le masque sont ensuite appliqués sur la plaquette et une image est créée. Le i10C est équipé d'une lentille NA élevée et d'une résolution de 0,091 µm, ce qui permet un dosage très précis. Le système est également équipé d'une tête d'alignement sans balayage avancée pour fournir un alignement très précis des motifs en trois dimensions. Il a également une fonction SRAF (Sub Resolution Assist Feature) qui aide à améliorer la précision et le débit des composants de sous-résolution. NIKON NSR 2005I10C est conçu avec un certain nombre de caractéristiques de sécurité, y compris un capot anti-contamination, un rideau lumineux et un système d'alimentation en liquide sans contact. En outre, le système dispose d'un certain nombre de capteurs et de détecteurs intégrés pour surveiller les conditions de fonctionnement du pas et de ses composants. Le i10C est conçu pour traiter jusqu'à 200 plaquettes par heure et est optimisé pour un temps d'arrêt minimal et une utilisation maximale. Ses fonctionnalités avancées permettent un traitement à la fois flexible et cohérent. Le stepper est extrêmement fiable et capable de produire des motifs avec des emplacements de bord aussi bas que 10nm. En résumé, NSR-2005I10C wafer stepper est une machine de lithographie très avancée pour les matériaux semi-conducteurs et diélectriques. Il est équipé d'un objectif NA élevé et d'une résolution de 0,091 µm, ainsi que d'une suite de caractéristiques de sécurité et de fonctionnalités avancées. Cette machine est capable de produire des motifs extrêmement précis et précis à des vitesses allant jusqu'à 200 wafers par heure et ses caractéristiques avancées fournissent un traitement flexible et fiable.