Occasion NIKON NSR 2005 i10C #9236760 à vendre en France

NIKON NSR 2005 i10C wafer stepper est un instrument haut de gamme utilisé dans la fabrication de produits semi-conducteurs avancés. Il s'agit d'un équipement de microlithographie optique entièrement automatisé capable d'imiter des plaquettes de grande taille. Le système est capable de produire des optiques de niveau de plaquette dans une gamme de tailles comprises entre 6 et 12 pouces. NIKON NSR 2005I10C fait partie de la série de systèmes de lithographie haut de gamme NIKON NSR. NSR-2005I10C offre les meilleures performances et le meilleur rapport coût-efficacité. Cette unité utilise la technologie d'imagerie optique à double champ pour générer une grande uniformité d'exposition sur les deux champs de vision, minimisant ainsi les variations d'exposition sur de grandes surfaces de la plaquette à la fois. La technologie optique à double champ permet d'obtenir de grands champs d'exposition pouvant atteindre 25 mm, ce qui donne à cette machine la capacité d'imiter de grandes zones de substrat en une seule prise de vue. NIKON NSR-2005I10C dispose d'une unité d'exposition unique qui est l'une des meilleures de sa catégorie. L'unité d'exposition est composée d'une lentille de condenseur configurable, d'un obturateur et d'un mandrin avec électrode et lunette. L'outil utilise trois étages motorisés pour effectuer le retensionnement, le rapport d'aspect et la redirection de l'image vers le substrat. Cette unité d'exposition offre une grande uniformité d'exposition, une faible variation de processus et un faible temps d'arrêt. NSR-2005 I 10 C utilise également un actif d'imagerie multi-têtes/multi-faisceaux, qui est capable de produire des champs d'exposition multiples dans un processus d'exposition. Le modèle est capable de produire de très petites caractéristiques, des positions de recouvrement précises et une excellente qualité d'imagerie dans une large gamme de conditions de résistance à l'exposition. L'équipement a une précision totale de 1,5 micromètre dans les axes X, Y et Z et est capable de résolutions jusqu'à 0,2 micromètre. Le système dispose d'une capacité de propreté sèche, éliminant le besoin d'un procédé humide. Le CRN 2005 I 10 C est conçu pour être convivial et efficace, offrant un alignement automatique des substrats, une optimisation automatique de l'exposition, une inspection photographique en temps réel des réticules et une analyse de l'ajustement des courbes de plusieurs paramètres d'identification et d'ouverture. L'unité fournit également une interface utilisateur graphique (interface graphique) avec un support multilingue. L'interface graphique permet à l'utilisateur d'accéder facilement aux fonctions d'imagerie professionnelle de la machine. NSR 2005 i10C est une machine pas à pas fiable et puissante conçue pour répondre aux applications de microlithographie optique les plus exigeantes. Il offre des performances supérieures et un bon rapport coût-efficacité et peut produire d'excellents résultats d'imagerie dans un large éventail de conditions d'exposition de résistance. L'outil dispose d'une inspection photographique en temps réel des réticules, d'une capacité de nettoyage à sec et d'une interface graphique conviviale pour un accès facile aux fonctions d'imagerie de la machine.