Occasion NIKON NSR 2005 i10C #9389865 à vendre en France

NIKON NSR 2005 i10C Wafer Stepper est un outil polyvalent et performant de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est conçu pour réaliser des processus de lithographie haute résolution d'un bon rapport coût-efficacité allant jusqu'à 0,25 μ m. Cet équipement offre des caractéristiques d'équipement avancées, telles que le mouvement des échantillons de haute précision ; une grande stabilité aux vibrations environnementales ; et l'autofocus, qui facilite l'alignement des échantillons. Le pas de tranche combine la projection optique haute résolution avec une large gamme de processus incluant la correction optique de proximité (OPC). Cela le rend idéal pour les exigences exigeantes de la production de VLSI fine ligne et de la fabrication de dispositifs nanométriques. Le pas de plaquette est configuré avec deux interféromètres laser, deux étages, une tête de lithographie à double couche et un loadlock chauffé. La tête de lithographie à double couche est capable d'une exposition à haute résolution de 0,15 μ m, et peut accueillir plusieurs champs d'exposition dans une même exposition. Le loadlock chauffé élimine le besoin de stabilité mécanique à long terme, permettant la production de modèles de haute qualité dans des temps d'exposition courts. Le pas de plaquette est équipé d'un certain nombre de caractéristiques pour aider à assurer une plus grande stabilité, comme un étage d'aérofreinage, la surveillance du niveau sonore audioscopique, le contrôle de la température et de la pression, et des systèmes de suppression des vibrations. L'étage d'aérogénération positionne avec précision l'échantillon pour obtenir une précision et une stabilité maximales. Le système audioscopique surveille le niveau de bruit de la machine, et lorsqu'un son anormal est détecté, l'unité alerte immédiatement l'opérateur. En outre, la machine offre d'excellentes capacités d'exposition et de superposition. La fonction d'exposition offre une qualité d'image supérieure avec une résolution et un contraste élevés, tandis que la fonction de recouvrement offre un alignement précis des motifs, obtenant une précision de processus élevée avec des composants minimalement tolérés. Le pas de plaquette est un excellent choix pour la production de motifs de haute précision dans des temps d'exposition courts. Il offre une résolution et une précision supérieures, et est capable de hauts niveaux de productivité en termes de débit et de rendement. L'outil est sûr et polyvalent, et peut être personnalisé en fonction de divers processus et applications.