Occasion NIKON NSR 2005 i7 #9269107 à vendre en France

NIKON NSR 2005 i7 est un pas de plaquette qui est un outil de lithographie avancée utilisé pour la fabrication de photomasques. Il est utilisé dans la production de semi-conducteurs, d'écrans plats et d'autres dispositifs microélectromécaniques. NSR 2005 i7 est une version considérablement améliorée du populaire NSR-2004, offrant une empreinte plus grande, une action plus rapide et une meilleure qualité d'image. NIKON NSR 2005 i7 a une optique avancée, augmentant la compensation de courbure de champ. Cela garantit que l'image est au point focal, et que la précision d'exposition est constante sur toutes les zones de la plaquette entière. Les optiques sont toutes fermées, augmentant la stabilité de l'équipement pour réduire les risques d'erreurs de production. La norme NSR 2005 i7 comporte deux niveaux d'exposition : le niveau le plus élevé et le niveau le plus bas. Cela permet une plus grande précision et plus de flexibilité. Le réglage à haut équipement offre une résolution plus élevée et une marge d'erreur plus faible, tandis que le réglage à faible intensité permet des temps d'exposition plus rapides. NIKON NSR 2005 i7 a augmenté la capacité et amélioré la précision du mouvement. L'augmentation de la surface de la tranche augmente le rendement de production et réduit les temps d'arrêt de production. La vitesse accrue du moteur pas à pas réduit les temps d'exposition, augmentant encore le taux de production de la machine de lithographie. Bien que conçu pour la lithographie photomasque, NSR 2005 i7 peut également être utilisé pour les photomasques maillés ligne et les plaques de croissance cristalline. De plus, NIKON NSR 2005 i7 peut prendre en charge différents formats d'image, tels que binaires, semi-gris et en forme de Z. Le pas a une capacité de centre magnétique, ce qui assure que la plaquette est parfaitement centrée. De plus, un système intégré d'inspection en ligne détecte les erreurs malheureuses lors de la production, comme les désalignements. NSR 2005 i7 dispose également d'un interféromètre de mouvement, qui mesure, évalue et compense tout type de déplacement. NIKON NSR 2005 i7 a une architecture polyvalente, permettant aux clients de configurer l'appareil en fonction de leurs besoins spécifiques. La NSR 2005 i7 est alimentée par une machine d'exploitation basée sur PC, et est livrée avec un ensemble complet de logiciels, y compris des contrôleurs d'outils, des régleurs de paramètres, des aligneurs et un moniteur de production. Ceux-ci permettent un contrôle total sur l'ensemble du processus de lithographie. Globalement, NIKON NSR 2005 i7 wafer stepper est un actif avancé, polyvalent et puissant de lithographie photomasque. Son optique améliorée et sa précision accrue se combinent avec un débit élevé et une construction entièrement fermée pour en faire un choix idéal pour une grande variété d'industries qui nécessitent une production fiable de photomasques.