Occasion NIKON NSR 2005 i8 #9016036 à vendre en France

NIKON NSR 2005 i8 est un pas de plaquette haute performance conçu pour des applications de production pilote et de bossage de plaquettes à faible volume. Il est équipé d'un étage de plaquettes de 12 pouces haute résolution et d'un cadre rigide pour l'alignement précis et reproductible des plaquettes et le placement des bosses. Le i8 dispose d'une colonne pas à pas de 8 pouces et d'une capacité de rotation à deux étages, permettant un alignement à grande distance et un grossissement de projection maximal de 750x. Le stepper est équipé d'un système d'éclairage avancé assurant un contrôle précis de l'observation et de l'éclairage des plaquettes pour une stabilité optimale de la fermentation. La résolution avancée de 0,75 micron, jusqu'à une fréquence de 0,3 micron, offre un excellent contraste et une définition pour des motifs uniformes, pointus et bien définis avec des largeurs de ligne minimales. Il est également capable de détecter des déphaseurs à faible contraste pour des applications de métrologie et de contrôle. Le i8 est en outre équipé de modes d'exposition multiples pour minimiser le temps de traitement et améliorer la polyvalence du travail de lithographie. Sa technologie pro-flux ajuste dynamiquement les paramètres des paliers en fonction de la taille du modèle, des conditions d'exposition, de l'état de chargement des plaquettes et des notations supplémentaires. Cela permet à l'opérateur d'ajuster rapidement les paramètres lors de la transition de plus grandes à plus petites tailles de fonctionnalités. Le système avancé de chargement des plaquettes assure une meilleure manipulation des plaquettes. Le système utilise une conception d'interface de chargeur unique qui permet à l'opérateur de déplacer rapidement les plaquettes des étages supérieurs aux étages inférieurs pour accélérer le processus. Il dispose également de capacités de manutention flex-film intégrées de wafer. NSR 2005 i8 est un pas de plaquette rentable et performant conçu pour répondre aux exigences des processus de production et de bossage des plaquettes à faible volume. Il est conçu pour fournir la plus haute résolution et précision pour une gamme d'applications pas à pas de plaquettes et est idéal pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs résidentiels.