Occasion NIKON NSR 2005 i8A #9016445 à vendre en France
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Vendu
ID: 9016445
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1991
i-Line stepper, 6"
Wafer stage results of last PM:
Wafer holder flatness (Spec. < 2.5 μm): 1.3 μm (no leveling)
Y mirror travel (Spec. < 5 μm): -0.7 μm
Orthogonality (Spec. ≤ 0.96 μrad): 0.2 μrad
Stepping (Spec. 3σ≤ 70 nm): 3σ X: 27 nm, 3σ Y: 27 nm
Back-step (Spec. 3σ≤ 70 nm): 3σ X: 45 nm, 3σ Y: 36 nm
Illumination system results of last PM:
Lamp power: 447 mW/cm²
Uniformity (overall ≤ 1,5 %): 1.26 %
Actual vs. displayed power (≤±5 %): -3,712 %
Illumination tele-centricity (Spec. ±1 μm Z < 40 nm):
Xmax/min: 38/-17 nm
Ymax/min: 6/-32 nm
Lens results of last PM:
Lens inclination (Spec. Tilt ≤±0.2 μm)
UR-LL: 0.030 μm
UL-LR: 0.069 μm
Distortion (Spec. ≤±70 nm)
X max/min: 19/-32 nm
Y max/min: 47/-24 nm
Chamber:
Chamber front chamber temp: 23 ± 0.1 °C, 23.01
Pressure supply: 3 ± 0.1 Kg/cm², 3.1
Vac supply: > 460 mmHg, 650.00
Freeezer pressure:
High pressure: 15 ± 1 Kg/cm², 15.0
Low pressure: 4.85 ± 0.65 Kg/cm², 4.40
Wafer stage:
Clean and grease leadscrew X: OK, Y: OK
Clean and lubricate needle bearing X: OK, Y: OK
Perform stage running ca 10 min only after stage PM: OK
Check Interferometer mirrorsl X: OK, Y: OK
Check fiducial: OK
Wafer holder flatness (no leveling): 6" < 2,5 µm, max-min mm 2.2
Orthogonality: to customer wafer ≤ 0.5 µrad, Wafer_ORT= µrad 0.3
Stepping STEP spec: 3 sigma ≤ 70 nm, stepping 3 sigma X = nm 36
3 sigma Y = 27 nm
BACK spec: 3 sigma ≤ 70 nm, backstep 3 sigma X = 51 nm
3 sigma Y = 42 nm
Nikon i8 body:
Sr6c 5ib2
Sr lens 5ib2
Sr6b standard control rack
Sr6 accessory part 1
Sr6b lia
Sr6b lc 2
Sr6c iu 5ib2
Sr6c 5ib2 fe 5
Sr6c ws 8
Sr6 ceramic wh 5-8
Sr6c arl 56
Straight arm 5
Sr6c library adapter 5p 56
Sr6c wl 6 8
Sr6c wl extra carrier 68
Sr6c wa
Sr6c fia
Sr6c lia attachment part
Sr6c reticle table 5 6
Sr6c interferometer
Sr6c vacuum control
Sr6c pedestal
Sr6c avis
Sr6c control unit
Sr6c chamber s
Sr6c chamber panel 5 6
Sr6 lsa measurement software ver2.2
Sr6c ra 2 4 axis cameras mechanism 5
Sr6c aircondition 1b nema
Sr6 wl safety
Sr6b hg trap metal mesh
Sr6b rack modification us
Sr6 hg lamp outlet
Sr6c export tool
Sr6c laser safety part usa
Sr6c machine label
Sr6c safety label usa
Sr6c chamber label usa
Sr6c/8 high reflection board attachment parts
Sr 5ib2/c2 relay lens
Sr6 wafer cassette positioner if
Sr6c fia step 1
Sr6b/6c glass filter u-360
Sr6c extension cable protection cover
Sr6c ra2 cover for 4 axis camera
Sr6b hg lamp power supply ib2
Sr6c hg lamp power supply change ib5
Sr6c export mod ibm 973
Disassembled and crated
1991 vintage.
NIKON NSR 2005 i8A est un pas de plaquette conçu spécifiquement pour le traitement de niveau de plaquette avec un haut débit intégré et une grande précision. L'unité est capable de loger des substrats jusqu'à 200 mm de diamètre, ce qui permet une surface plus grande que la plupart des systèmes pas à pas classiques. L'équipement d'optique de précision offre un haut degré de précision et de répétabilité, permettant une base de processus reproductibles. De plus, le contrôle de mouvement intégré et l'autofocus aident à minimiser le temps de cycle pour améliorer le débit. Le système d'alignement avancé de l'unité dispose de capacités d'alignement grossières et fines avec un haut niveau de précision et de vitesse. L'unité utilise des optiques de champ inférieures et des caméras CCD haute résolution pour détecter précisément la position exacte de chaque plaquette après alignement. De plus, les fonctions de focalisation et d'alignement peuvent être personnalisées au besoin pour répondre à des applications spécifiques au niveau du substrat. La fonction d'éclairage de la machine est hautement personnalisable avec un choix de longueurs d'onde, d'ouvertures numériques et de niveaux d'uniformité. Cette fonctionnalité est essentielle pour optimiser les résultats de lithographie et garantir les images de la plus haute qualité. De plus, l'unité intègre des capteurs laser très sensibles et une interférométrie laser pour mesurer les positions exactes de chaque plaquette, diminuant la variabilité des processus et le potentiel d'erreurs. En outre, l'unité offre une large gamme de capacités de compensation de superposition et une variété de fonctions de reconnaissance de motifs. Cela garantit que chaque plaquette est placée avec précision dans l'étage sans erreurs coûteuses ni retravaillement, ce qui permet de gagner du temps et de réduire les coûts. De plus, une installation entièrement automatisée de manutention de la charge principale est disponible pour le chargement, le déchargement et le changement de substrat sans tracas. NIKON NSR 2005I8A est équipé d'une interface de contrôle NIAS puissante et facile à utiliser qui permet un contrôle complet des processus. L'interface graphique intuitive permet une conception efficace des processus, ce qui augmente le débit et contribue à réduire les temps d'arrêt. De plus, l'unité respecte les normes UL, CE et FAC, en respectant des règlements plus stricts en matière de sécurité et d'environnement. Dans l'ensemble, NSR-2005I8A est un pas de plaquette puissant et précis conçu spécifiquement pour les processus de niveau de plaquette moyen à haut volume. L'unité dispose d'une optique de haute précision intégrée, d'un outil d'éclairage hautement personnalisable et d'une manutention automatisée de la charge principale, permettant aux utilisateurs d'obtenir des résultats rapides, reproductibles et fiables.
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