Occasion NIKON NSR 2005 i8A #9159993 à vendre en France

NIKON NSR 2005 i8A est un pas de plaquette submicronique de type fente qui a été développé par NIKON Precision Inc. en 2005. Le stepper est basé sur la technologie immersible de l'entreprise, qui a été optimisée pour supporter un large éventail d'applications, y compris les procédés de semi-conducteurs miniaturisés et de nanofabrication. NIKON NSR 2005I8A est équipé de deux ensembles de lentilles qui travaillent ensemble pour agrandir l'image ou le motif et réduire les aberrations. Le premier ensemble est composé de lentilles de champ qui ne sont pas diviseurs de faisceau et conçus pour fournir un front d'onde plat pour l'imagerie. Ces lentilles minimisent également la courbure du champ intérieur, permettant une imagerie uniforme et haute résolution. Le deuxième ensemble est composé de lentilles secondaires qui utilisent des miroirs de réflexion pour bien focaliser la lumière des lentilles de champ au stade de l'exposition. Le stepper est également équipé d'un système VCM (Variable Center of Mass) qui permet des réglages rapides et très précis de l'énergie d'exposition et de la position de focalisation, permettant une exposition précise des caractéristiques submicroniques. En outre, NSR-2005I8A dispose d'un système intégré de contrôle de l'exposition qui régule avec précision le motif lumineux, assurant une grande uniformité et répétabilité de l'énergie d'exposition. NSR 2005I8A présente également un design de scène unique. Le Stepper utilise une configuration à deux étages qui permet un positionnement rapide et précis dans un plan de plaquette. Cela permet un débit plus rapide et une plus grande précision dans le cycle d'exposition. De plus, le pas est équipé de mandrins sous vide pour un serrage fiable des plaquettes et de régulateurs de température pour une température uniforme des plaquettes. Globalement, NSR 2005 i8A est un pas de plaquette fiable et performant qui convient à un large éventail d'applications dans les procédés de semi-conducteurs et de nanofabrication. La conception à deux étages du stepper, la technologie immersible des lentilles de champ et le système de contrôle de l'exposition permettent une exposition précise et uniforme des caractéristiques submicroniques.