Occasion NIKON NSR 2005 i9C #293601909 à vendre en France
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ID: 293601909
Stepper
Resolution: ≤0.5 µm
UDOF: ≥0.7 µm
CD Uniformity: ≤50 nm
Focus calibration repeatablity: 3σ, ≤0.1 µm
Lens distortion: Within ±70 nm
Maximum area: 20x20 mm
Recticle blind setting accuracy: 0.4 to 0.8 mm
Exposure power: ≥550 mW/cm²
Integrated exposure control: Within ±1%
Illumination uniformity: Within 3%
Recticle rotation: Within 20 nm
Array orthogonality: Within ±0.1 sec
Stepping precision: 3σ, ≤70 nm
Operation test success rate: 100%
Wafer system success rate: 100%
Focus stability: ≤0.6 µm
Magnification error: Within 15nm
Field curvature: ≤0.3 µm
Chip levelling accuracy: Within ±1.5 sec.
NIKON NSR 2005 i9C wafer stepper est un appareil de haute précision utilisé dans une gamme d'applications allant de la fabrication de circuits intégrés à l'impression, l'imagerie et l'inspection. Doté de 9 axes de mouvement, le i9C offre une flexibilité inégalée avec des performances fiables à long terme. Il est conçu pour minimiser les distorsions thermiques et offre une isolation des vibrations intégrée. NIKON NSR2005I9C offre un équipement optique impressionnant avec une lentille condenseur haute résolution 0.8NA et des objectifs haute performance avec une ouverture numérique de 0,8. Cette combinaison puissante permet une large gamme d'applications d'imagerie, y compris l'inspection des paliers de fixation, de recouvrement et de plaquette. Le i9C prend en charge une variété de réticules de haute qualité et dispose de fines corrections de polarisation, de focalisation et d'alignement pour assurer la précision ultime. NSR-2005I9C stepper wafer se distingue par ses performances supérieures et son design robuste. Il est équipé d'un système quatre axes avancé et d'un grossissement à 4 niveaux qui le rendent adapté à des tâches très précises. L'appareil offre une vitesse de balayage élevée et une durée d'exposition maximale de 1,5 sec. Il offre également un échange automatique de réticules, un double champ de piquage d'image et une large plage de balayage allant jusqu'à 5,5 micromètres. CRN 2005 I 9 C wafer stepper est conçu pour augmenter l'efficacité de la production et réduire les défauts. Il dispose d'un contrôleur intuitif et de fonctions de surveillance avancées qui garantissent des résultats de fabrication de haute qualité. La machine est compatible avec une gamme de gaz de procédé et supporte l'automatisation de l'industrie 4.0. Enfin, NSR 2005 i9C est facile à entretenir et a une faible empreinte. Il est conforme à diverses exigences de sécurité et supporte le fonctionnement à distance. Toutes ces caractéristiques font du i9C un appareil idéal pour les applications de lithographie haut de gamme.
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