Occasion NIKON NSR 2005 i9C #9003511 à vendre en France

NIKON NSR 2005 i9C Wafer Stepper est un équipement de lithographie de plaquettes très polyvalent et précis pour la production de circuits et composants semi-conducteurs. La machine est capable de produire des structures de dispositifs évoluées avec des résolutions ligne/espace de 22nm et peut couvrir une surface de 8 pouces en un seul coup. NIKON NSR2005I9C Wafer Stepper est alimenté par les dernières optiques de projection d'images de haute précision, offrant une résolution et une précision de focalisation supérieures à celles des systèmes de lithographie classiques. Le système est composé de trois unités principales : l'unité de commande principale, le pas de plaquette et les sources lumineuses. L'unité de contrôle principale contient tous les composants logiciels et matériels nécessaires pour contrôler et traiter l'image et les données de la plaquette. Les composants comprennent un contrôleur, un ordinateur, un moniteur et un dispositif de mise en réseau. L'unité pas à pas contient les moteurs et l'optoélectronique nécessaires pour déplacer avec précision les plaquettes à l'intérieur de l'unité et les positionner avec précision pour la lithographie. Il comprend également une table d'étage et une carte de commande de l'orientation de la plaquette et de l'optique. Les sources lumineuses fournissent le rayonnement optique nécessaire pour produire des images à la surface de la plaquette. NSR-2005I9C Wafer Stepper est équipé d'une interface utilisateur intuitive qui comprend : une interface utilisateur graphique conviviale (GUI) pour contrôler la machine ainsi qu'une base de données avancée d'imagerie des particules pour stocker, gérer et contrôler les données de la plaquette. L'interface graphique peut également être utilisée pour l'édition manuelle et l'injection de données d'imagerie dans l'outil de lithographie. NSR 2005-I9C Wafer Stepper est conçu avec un étage de plaquette très précis et stable qui est capable d'offrir des performances lisses, fiables et précises tout au long du processus de lithographie. L'actif contient également un modèle optique avancé construit avec une optique haut de gamme, offrant une qualité d'image supérieure. De plus, NSR 2005 i9C Wafer Stepper est équipé d'un équipement d'alignement de haute précision pour localiser avec précision le substrat, aligner le masque et localiser le motif sur la plaquette. Cela signifie que le système peut localiser précisément le bord ou le coin du masque même à une distance inférieure à 5 microns. Il dispose également d'un mécanisme d'entraînement à grande vitesse capable d'assurer un fonctionnement rapide et un contrôle de haute précision du mouvement des plaquettes sans nécessiter un étalonnage coûteux. Enfin, NSR 2005I9C Wafer Stepper est conçu avec des chambres chauffées et des systèmes de régulation de température avancés, permettant un réglage précis de la température et une stabilisation à l'intérieur du stepper. Ceci permet de minimiser les facteurs d'environnement et d'accélération, optimisant ainsi la qualité de la production des dispositifs semi-conducteurs.