Occasion NIKON NSR 2205 EX12B #9265226 à vendre en France
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ID: 9265226
Style Vintage: 1997
DUV Stepper
Resolution: 280 nm
N.A: 0.55
Exposure light source KrF: Excimer laser (248 nm)
Reduction ratio: 1:5
Exposure field: 22 mm Square to 17.9 mm (H) x 25.2 mm (V)
Alignment accuracy (EGA): 55 nm
Robot arm, P/N: DDCVR-CR1041
Laser head
Alignment systems:
LSA
FIA
CYMER ELS5400 Laser
Lens type: 5EB2
LSA / FIA
Table leveling: AF
Reticle table: 56-6
CYMER EX Laser
Illumination units:
5EB2 IU
CYMER BMU
SHRINC Printed circuit board
RA: 5EB2 RA6
RLIB-ADP: Straight ARM 6
Ceramic wafer holder, 6"
Control rack
Power rack and power supply
LIA
WL3 Type carrier table: Right
Accessories
Wafer loader: Type 3
Pre-alignment 6: Type 3
Wafer loader 6: Type 3
In-line type: Left
1997 vintage.
NIKON NSR 2205 EX12B est un pas de plaquette ultraviolet profond (DUV) de haute précision et économique développé spécifiquement pour la lithographie à semi-conducteurs. Ce pas offre une résolution de pointe de 0,15 micron et une vitesse de balayage allant jusqu'à 2000 plaquettes/heure. Il peut être utilisé pour fabriquer des dispositifs avec des largeurs de ligne jusqu'à 70nm, ce qui en fait un choix approprié pour des applications avancées de semi-conducteurs. Le stepper est conçu pour une gamme complète de sources lumineuses à large bande DUV, y compris les lasers ArF Excimer et F 2, et peut être utilisé pour des applications de production et de développement. NIKON NSR-2205EX12B est conçu avec un scanner de 13 pouces et un indexeur linéaire de 10 étages, permettant d'imaginer des motifs exceptionnellement précis avec jusqu'à huit expositions par couche. De plus, il dispose d'un système de balayage à double faisceau qui permet l'imagerie simultanée en mode 10X et 15X, permettant à l'étape de délivrer une résolution de gravure supérieure. Sa grande précision et son faible niveau de bruit assurent un alignement précis du substrat. Ce stepper est équipé d'un système d'inspection des défauts très fiable et a la capacité d'ajuster automatiquement ses paramètres de balayage pour maximiser le débit et minimiser la variabilité de taille de tir à tir. Ce stepper offre également une gamme d'avantages environnementaux, y compris une basse température de fonctionnement, un fonctionnement sans vibrations et la compatibilité avec les filtres à température ambiante. En outre, il dispose d'un système d'éclairage optimisé avec une faible consommation d'énergie et des niveaux de bruit faibles. Cet étage est très compatible avec les systèmes de production de plasma de grande capacité, ce qui le rend adapté à la lithographie de grande capacité. Il prend également en charge le déchargement de données vers des logiciels de conception assistés par ordinateur, permettant aux utilisateurs d'apporter des modifications rapides et précises à leur conception. Toutes ces fonctionnalités font de NSR-2205 EX12B une option économique et fiable pour ceux qui travaillent avec des semi-conducteurs. Il est conçu pour une précision et une précision à long terme, et ses capacités d'imagerie UV profonde le rendent adapté à la fabrication avancée d'appareils. Ce stepper est un choix optimal pour ceux qui recherchent une solution haute performance pour leurs besoins d'imagerie de plaquettes.
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