Occasion NIKON NSR 2205 i11D #293609472 à vendre en France
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ID: 293609472
Stepper
Resolution: 0.4 µm
DOF: 0.6 µm
Total focus deviation: ≤0.4 µm
Lens inclination: ≤0.2 µm
Lens distortion: Within ±50 nm
Focus control accuracy: Within ±0.15 µm
Illumination uniformity: Within ±2.5%
Power: 700 mW/Cm²
Reticle blind setting accuracy: Within +0.40 mm to +0.80 mm
Reticle rotation: |x|+3s≤20 nm
Array orthogonality: Within ±0.1 s
Stepping precision: Within 0.040 µm (3σ)
Alignment accuracy (LSA, FIA): |Mean|+3s <0.085 µm
Wafer pre-alignment repeatability: Within ±1.5 s
Wafer flatness: <0.8 µm.
NIKON NSR 2205 i11D wafer stepper est un équipement d'auto-step très avancé utilisé pour les procédés de lithographie avancés, ainsi que l'imagerie de haute qualité des wafers semi-conducteurs. Ce système utilise une caméra numérique ultra haute résolution pour acquérir les images de la plus haute qualité des composants semi-conducteurs, puis utilise un moteur pas à pas de précision pour placer avec précision le substrat photomasque et wafer dans la position souhaitée. NIKON NSR-2205I11D prend ensuite ces images et les transmet à un processeur d'auto-pas très avancé qui est conçu pour assurer la précision et la cohérence sur plusieurs tailles de plaquettes et configurations de photomasques. L'unité combine précision, précision et répétabilité en mettant l'accent sur la réduction du temps de cycle et la réduction des gaspillages de ressources machines. Pour ce faire, il intègre des fonctionnalités avancées telles qu'un outil de chargement avancé, une interface double axe et une capacité de déplacement latéral. L'atout double axe permet une résolution d'image plus fine et un plus grand débit du processus de lithographie, avec une plage de mouvement de 30 microns pour chaque axe, et une précision de plus ou moins 1,4 microns. La caractéristique de décalage latéral peut être utilisée pour des plaquettes de différentes tailles, permettant un pas consécutif de n'importe quel substrat de taille. NSR 2205I11D possède un modèle d'entraînement unique qui assure un débit élevé pour les transferts de photomasques et de plaquettes. Il est conçu avec une fonction de synchronisation bi-moteur qui réduit le risque de collisions de plaquettes pendant le processus d'étape. Le stepper offre également des capacités avancées de levage des plaquettes, en contrôlant le levage des plaquettes par des positions qui permettent d'obtenir la plus grande précision possible. L'équipement fournit une précision relative de pas de 0,75 pixel par pixel, et une précision relative de 0,5 pixel par pixel. NIKON NSR 2205 I11 D est conçu avec un système de communication avancé et est intégré avec une capacité de surveillance et de diagnostic en ligne. Cela permet aux opérateurs de suivre la performance de l'unité et de déboguer les problèmes potentiels rapidement et en temps opportun. En outre, la machine est conçue avec une suite logicielle de contrôle qui fournit un contrôle flexible de l'utilisateur, ainsi qu'une analyse complète des données de l'outil et des rapports. NSR-2205 I11D est un atout avancé d'auto-step qui est très précis et assure un haut débit pour les meilleurs résultats d'imagerie possibles. Le modèle est spécialement conçu pour les fabricants de semi-conducteurs et les procédés de photolithographie, et est l'un des systèmes les plus populaires dans l'industrie pour ces applications. Ses fonctionnalités avancées en font un choix idéal pour ceux qui recherchent un équipement d'auto-étape fiable, précis et très efficace.
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