Occasion NIKON NSR 2205 i11D #293619535 à vendre en France

NIKON NSR 2205 i11D est un pas de tranche très avancé conçu pour répondre aux besoins de production en volume dans les industries des semi-conducteurs et des nanotechnologies. Ce stepper est très fiable, précis et rapide, ce qui le rend idéal pour la pré-production à haut débit et la production en volume de dispositifs microélectroniques. Le stepper dispose d'une multitude de fonctionnalités qui rendent ses performances bien supérieures aux autres modèles. L'optique de NIKON NSR-2205I11D utilise la technique avancée d'optique exclusive pour l'application d'électrons et de photons sur le substrat. Ceci assure un placement précis des motifs avec un minimum de contamination ou de distorsion. Le stepper offre également un mouvement de scène rapide, un alignement précis et une exposition rapide. Le stepper a trois étapes qui peuvent se déplacer jusqu'à 1,5 μ m/s en précision et répétabilité constante. Cela lui permet de placer avec précision et rapidité des motifs sur des substrats de manière précise et uniforme. L'étage dispose également de la conception de filtres à faible EMI pour réduire le bruit et l'interférence EMI lors de l'étape de wafer. Le stepper utilise un équipement avancé d'alignement CCD qui offre une précision et une répétabilité supérieures. Ce système d'auto-correction compense le désalignement, rendant l'étape très fiable. L'unité surveille également la hauteur du substrat pour maintenir des conditions optimales pour chaque couche modelée. NSR 2205I11D stepper utilise un puissant gestionnaire de plaquettes et une machine de positionnement de substrat. Le gestionnaire de plaquettes peut contrôler jusqu'à cinq plaquettes de 6 pouces et peut placer les matériaux avec précision directement sur les côtés supérieur et inférieur des substrats. L'outil de positionnement du substrat est capable de déplacer les substrats jusqu'à 9 millimètres/s, ce qui permet d'assurer un positionnement précis des matériaux. Dans l'ensemble, NIKON NSR 2205 I11 D est un pas de tranche avancé conçu pour répondre aux besoins des procédés de production en volume avancés dans les industries des semi-conducteurs et des nanotechnologies. Son optique supérieure, son mouvement rapide, son alignement précis, son manche flexible et son outil de positionnement de substrat en font un choix idéal pour les processus de pré-production et de production à haut débit.