Occasion NIKON NSR 2205 i11D #293799138 à vendre en France
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ID: 293799138
Stepper
Total focus deviation: 0.263 µm
Astigmatism: -0.21 µm
Reticle blind: 0.5 mm to 0.7 mm
Focus calibration repeatability: 36 nm
Exposure power: 776.520 mW/cm²
Integrated exposure control: ≤1.0%
Illumination uniformity: 1.177%
Reticle rotation: 10 nm
Orthogonality: 0.074 sec
Wafer flatness: 0.89 µm
Inclination:
UR-LL: 0.051 µm
UL-LR: 0.006 µm
Pre-alignment repeatability:
X: 5.027 µm
Y: 6.615 µm
Y-Theta: 14.906 µm
Lens distortion:
X: 0.032 to 0.033 µm
Y: 0.026 to 0.020 µm
FIA Overlay:
X: 32 nm
Y: 28 nm
LSA Overlay:
X: 57 nm
Y: 31 nm
Stepping accuracy:
X: 22 nm
Y: 25 nm.
NIKON NSR 2205 i11D Wafer Stepper est une machine optique de haute précision conçue pour modeler des dispositifs semi-conducteurs dans un environnement de production. La technologie i11D avancée tient compte des temps d'exposition plus rapides et de la résolution améliorée, en permettant des temps de développement plus courts et une plus haute production d'appareil. NIKON NSR-2205I11D wafer stepper est équipé d'un système propriétaire d'alignement à double pas (DATAS), qui utilise deux systèmes optiques différents pour permettre un alignement précis par pas du plan d'exposition à la plaquette. En outre, la machine offre des processus d'exposition par lots et uniques qui peuvent être ajustés pour différents substrats et exigences d'éclairage. L'étage NSR 2205I11D wafer est équipé de deux lampes d'exposition à l'arc au xénon de 2 000 W, d'une lampe d'exposition au mercure 5kV et d'un illuminateur de source liquide qui fournit une irradiation uniforme et définie en longueur d'onde sur une zone d'exposition pouvant atteindre 410 mm. Cette combinaison de sources d'exposition permet à la machine de traiter divers substrats tels que les réflecteurs GaAs, ELO, SOI et Bragg. La machine peut également être utilisée pour réaliser des films épais, y compris des films SiLK, des films photo et des films de quartz. La machine est équipée d'un étage à trois axes qui offre une vitesse de traversée de l'étage x-y jusqu'à 75 mm/s et une vitesse de l'axe z jusqu'à 2 nm/step. Les planeurs haute performance assurent un parallélisme stable des étages plats sur une large gamme de conditions, d'où un niveau élevé de précision de position et de répétabilité. NSR 2205 I11 D Wafer Stepper est également équipé de fonctions de contrôle avancées telles que Autofocus et Pattern Recognition, qui aident à assurer des modèles de haute qualité et un alignement cohérent des plaquettes sur les plaquettes. NSR-2205 I11D fonctionne sous le logiciel propriétaire de NIKON G2 i-Controller, qui automatise la configuration du système, l'exposition et l'alignement. Le logiciel intuitif facilite également une gestion efficace des données et des alignements sur plusieurs types d'exposition et offre aux utilisateurs la souplesse nécessaire pour personnaliser des paramètres tels que la dose d'exposition et le temps d'exposition. En outre, NIKON optionnel 'Light Optimizer Software' offre une optimisation facile des paramètres d'exposition pour différents substrats, réduisant le risque d'erreurs d'enregistrement et améliorant les rendements. NIKON NSR 2205 I 11 D wafer stepper offre la meilleure combinaison de débit, de précision et de flexibilité dans un environnement de production. Avec ses paramètres d'exposition avancés, ses fonctionnalités d'auto-alignement intégrées et son logiciel intuitif G2 i-Controller, NSR-2205 I11 D est un excellent choix pour les fabricants d'appareils à la recherche d'un pas optique fiable.
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