Occasion NIKON NSR 2205 i11D #9160392 à vendre en France

NIKON NSR 2205 i11D est un système d'exposition avancé pour la fabrication de dispositifs dans l'industrie des semi-conducteurs. Développé par NIKON Precision, il s'agit d'un pas compact et très précis utilisé pour la fixation et l'exposition à haute résolution de couches de résines photosensibles sur de nombreux types de plaquettes telles que le silicium, le verre et le polymère. NIKON NSR-2205I11D est basé sur une nouvelle source d'éclairage i-line composée d'un réseau ultraviolet (UV) et d'une lentille de condenseur haute performance. Ce système est conçu pour fournir une intensité et une largeur de bande uniformes de la lumière qui convient parfaitement pour l'exposition de motifs de haute précision des couches de photorésist. Il a un niveau de bruit très faible, ce qui le rend adapté aux processus d'exposition des appareils extrêmement sensibles. Le système est très précis, avec une précision de recouvrement maximale de +/- 15 nanomètres pour les images de 4 carrés et de +/- 25 nanomètres pour les images de 8 carrés. De plus, les caractéristiques complètes de NSR 2205I11D lui permettent de réduire la rugosité du bord de ligne (LER) et de maintenir des valeurs DOF faibles. En tant que tel, il est idéal pour les procédés avancés de fabrication d'appareils, tels que la lithographie de contact et l'imagerie par UV profond. La structure rigide du pas et la simplicité supérieure des axes de course assurent un fonctionnement stable même en fonctionnement continu. L'alimentation fonctionne à une tension faible qui réduit fortement le bruit électromagnétique. En outre, l'excellente fonction de contrôle de phase du moteur permet une exposition très précise avec 1/1000e de répétabilité de degré et une précision de +/- 2 nanomètre. NIKON NSR 2205I 11D est équipé d'un grand mandrin de plaquette et d'un étage à faible inclinaison pour s'assurer que le stepper est capable de gérer les défis de répétabilité et de débit des processus de fabrication d'appareils les plus exigeants. Sa précision de positionnement au niveau du nanomètre garantit une uniformité d'exposition supérieure, une répétabilité et une qualité d'imagerie exceptionnelle. Sa configuration permet également une grande profondeur de focalisation pour de faibles variations transversales des performances des lentilles. NSR-2205 I11D offre un haut niveau de productivité grâce à ses performances précises, reproductibles et fiables. Sa conception robuste le rend adapté au traitement des plaquettes de grand volume et ses caractéristiques spécialisées lui permettent de répondre aux exigences d'exposition les plus difficiles pour la fabrication de semi-conducteurs d'aujourd'hui.