Occasion NIKON NSR 2205 i11D #9174897 à vendre en France

Fabricant
NIKON
Modèle
NSR 2205 i11D
ID: 9174897
Taille de la plaquette: 2"- 4"
Stepper, 2"-4" Specification: Expose area: 28.28 mm Φ 20.0 * 20.0 19.61 * 20.40 Resolution: 0.5 DOF: Within +/- 2.0µm Lens distortion: Min X.-0.063µm Y:-0.089µm Max X:0.028µm Y:0.068µm Illumination uniformity conv (ID1): 1.495% Integrated exp controller: 0.30% Wafer holder flatness: 1.02µm Leveling: X -1.058sec Y: -0.016sec R 0.736sec P: -0.759sec Auto focus stability: Within +/- 0.4µm Reticle blind: XL:0.6 mm XR:0.65 mm YL:0.5 mm YU:0.55 mm Array orthogonality: 0.013 Sec Stepping accuracy(STEP): X:0.082/*n Y: 0.055µm (3)σ Reticle rotation(ABS/Rep): 0.003µm Overlay accuracy: Mean +3σ<0.18µm Defocus rate < 6.0% Wafer load type: Type ll Reticle size: 6" Wafer type: Flat Chuck size: 2"- 4" Currently installed.
Le NIKON NSR 2205 i11D est un appareil de pointe conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cette 5ème génération de paliers NIKON est capable d'atteindre des tailles d'image minimales de 25 nm. Il offre une gamme complète de capacités de haute performance, lui permettant de répondre aux exigences des dernières techniques de nanofabrication. Le système offre une résolution optique supérieure de 0,31 super-résolution et une précision de recouvrement minimale de 0,8 nm. Il est équipé d'une unité de commutation de champ bi-mode, lui permettant d'obtenir des temps d'exposition plus rapides tout en conservant une résolution optimale. Cela est réalisé grâce à la technologie NIKON i-Tone d'amélioration de l'imagerie de terrain. La machine offre une plate-forme d'imagerie flexible, avec une gamme de modes d'exposition, y compris le mode unique, le mode de contact et les UV profonds. En outre, il supporte divers objectifs DUV haute résolution, y compris ceux avec des valeurs d'ouverture numérique (NA) jusqu'à 0,135. Cela permet une imagerie de haute précision des structures pouvant avoir des dimensions nanométriques. Le Sub-10nm Pattern Control de l'outil fournit une optimisation des motifs de précision. Ceci est réalisé grâce à sa technologie propriétaire Wavefront Control, utilisée pour façonner le faisceau lumineux au niveau d'un nanomètre. Cela améliore la précision et les capacités de NIKON NSR-2205I11D dans la fabrication d'appareils submicroniques. NSR 2205I11D offre un étage de génération de particules à faible rendement (GPL). Cet actif réduit au minimum la contamination particulaire des plaquettes pendant les activités d'exposition ou d'alignement, contribuant ainsi à améliorer le rendement des dispositifs et à prolonger la durée de vie des composants critiques. Le modèle dispose également de la technologie unique NIKON Field Imaging Equipment (FIS), qui lui permet de créer des images tridimensionnelles précises d'une surface. Ceci est utilisé dans les applications de lithographie pour améliorer la précision et la qualité du produit final. Dans l'ensemble, le système NIKON NSR 2205 I 11 D est un pas de plaquette extrêmement puissant et avancé. Il offre d'excellentes capacités d'imagerie, un contrôle précis des motifs et une génération minimale de particules. Ses capacités en font un outil précieux pour les activités de fabrication de semi-conducteurs, fournissant une impression précise des motifs, un alignement fiable et une imagerie précise des structures nanométriques.
Il n'y a pas encore de critiques