Occasion NIKON NSR 2205 i11D #9236907 à vendre en France

Fabricant
NIKON
Modèle
NSR 2205 i11D
ID: 9236907
Taille de la plaquette: 6"
Stepper, 6" Reticle, 6" (2) Carriers Illumination: SHRINC3 Lamp illumination: Average power: 496.664 mW / cm² Uniformity: 0.893 % Lens distortion: ±0.050 µm Maximum: X: 0.065 Y: 0.063 Minimum: X: -0.066 Y: -0.049 Field inclination: Within 0.35 µm UL-LR, UR-LL: 0.2 µm AST: 0.25 µm Minimum - maximum: 0.292 µm Curvature: 0.002 µm UL-LR: -0.009 µm UR-LL: -0.016 µm.
NIKON NSR 2205 i11D est un pas de plaquette de pointe, conçu pour fournir des performances de haute précision et fiables dans le processus de fabrication des dispositifs semi-conducteurs. Le système est capable d'utiliser une technologie d'alignement avancée guidée par la vision, offrant une précision d'enregistrement inférieure à 50nm et une précision de recouvrement inférieure à 3 μ m. Il est également équipé de NIKON Advanced Illumination Correction Technology, permettant d'améliorer la productivité en détectant automatiquement l'éclairage local et en maintenant l'uniformité. De plus, le scanner intra-terrain intégré et le protocole de transfert Defocus amélioré, ou EDTP, permet des temps d'exposition très rapides de moins de 5 secondes. NIKON NSR-2205I11D peut supporter tous les types de processus semi-conducteurs, y compris la lithographie en ultraviolet profond, la lithographie interférentielle, la lithographie implante et la lithographie en écriture directe. Le système est également capable d'obtenir des performances élevées dans le processus de fabrication rapide de l'appareil grâce à sa haute optique et sa précision de micro-pas. NSR 2205I11D peut également être utilisé en lithographie sèche et en immersion, avec une large gamme de types de fentes disponibles, permettant une grande flexibilité pour l'utilisateur final. De plus, NSR 2205 I 11 D offre également plusieurs innovations opérationnelles, comme son moniteur de focalisation en temps réel permettant de focaliser la précision jusqu'à ± 1nm et Trend Pattern Detection donnant une détection précoce des erreurs d'exposition. Le système est également équipé de NIKON Graphic Language, ou NGL, pour le processus de wafer automatisé et la programmation, ainsi que DAS, ou Delta Auto Search, pour l'alignement absolu. En outre, le wafer stepper bénéficie également NIKON unique technologie Helical Micro-step, qui réduit la distorsion induite par l'exposition et augmente la productivité. En termes de performance, NSR 2205 I11 D offre une gamme de résultats supérieurs. Son Optimizer Rayleigh Interval offre un gain de débit de 1.5X à 2X par rapport aux solutions d'éclairage classiques. Le pas de plaquette a également une taille de champ maximale de 105.9mm avec 0.6X grossissement et une taille de champ minimum de 41.1mm avec grossissement 4X. Sa gamme Step and Repeat Resolution est réalisable jusqu'à 0,112 μ m, ce qui permet une résolution incroyablement fine. Dans l'ensemble, NIKON NSR-2205 I11D offre de superbes performances dans la fabrication d'appareils, ainsi qu'une gamme de fonctionnalités et d'améliorations de performance que nous recherchons dans ce domaine. Que ce soit pour la production à plus grande échelle ou pour le prototypage et le développement à petite échelle, le facteur NIKON NSR-2205 I11 D dans les nouvelles fonctionnalités et technologies disponibles, offrant des performances et une fiabilité supérieures pour les utilisateurs finaux.
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