Occasion NIKON NSR 2205 i12C #293752261 à vendre en France
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ID: 293752261
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1997
Stepper, 6"
Resolution (NA=0.57): Within 0.45 µm
DOF: 0.8 µm
Lens Distortion (incl. magnification error): Within ±55 nm
Lens Distortion Stability: Within ±20 nm
Focus Stability: Within ±0.25 µm
Open Frame (Max. Exposure Area): 22.0 mm × 22.0 mm (17.96–25.20)
Auto Focus Calibration Repeatability: 3σ ≤ 100 nm
Auto Focus Offset Range: Within ±20 µm
Lamp Power: 700 mW/cm²
Lamp Uniformity: Within 1.5 %
Dose Control Accuracy (Integrated Exposure Stability): Within ±1.0 %
Reticle Blind: +0.4 mm ~ +0.8 mm
Reticle Alignment Accuracy: Absolute value within ±0.02 µm of target value, Repeatability within 0.015 µm
LSA Overlay Accuracy: |X| + 3σ ≤ 0.065 µm
FIA Overlay Accuracy: |X| + 3σ ≤ 0.065 µm
Stepping Accuracy: ±0.04 µm (3σ)
Orthogonality: Within ±0.1 sec
Wafer Stage Flatness: Within 2.0 µm / 200 mm
Chip Leveling: Within 4.8 µrad / 22 mm
Wafer Prealignment Repeatability: 3σ within 15 µm
Self Measurement Program (Option): Automatic
Temperature: 23°C
Chamber Type: S20
NA Variable System
Reticle Size: 6" (Normal)
Reticle Microscope: Fix
Max Field Size: 22 mm
PPD
Reticle Barcode Reader
Reticle Loader: Standard (13 Slot)
Reticle Case: 6" Standard
Pre Alignment
Wafer Loader: Type2
Chip Leveling
Wafer Carrier Table: Left, Right
Alignment Sensor: LSA, FIA
Rack Type: Normal (Right)
Body‑OP Ruck Cable: 3 m (Normal)
No Wafer Edge Exposure
Lamp Power: 2 kW (Normal)
Illumination: SHRINC3
1997 vintage.
NIKON NSR 2205 i12C Wafer Stepper est un équipement de lithographie de haute précision entièrement automatisé qui est conçu pour produire des photomasques et des réticules. Le système est équipé d'une caméra à fente variable de 12 pouces (VSC) et d'un champ de vision de 12 pouces (FOV) qui garantit une qualité d'imagerie supérieure et un débit exceptionnel. Son unité de contrôle Défocus en temps réel (RDC) garantit l'excellence de l'imagerie des plaquettes. Il est alimenté par un contrôleur intelligent i-series (i12C), qui fournit des performances haut de gamme et l'efficacité opérationnelle. Il fournit également un accès instantané aux fonctions et aux paramètres, et simplifie la saisie manuelle des données. Les fonctionnalités du logiciel, comme le sélecteur à fente intelligente (SSI), améliorent l'efficacité opérationnelle et la fiabilité. NIKON NSR-2205I12C est capable de pré-aligner et de marcher à des vitesses élevées tout en offrant une uniformité d'exposition précise. Il est programmé pour assurer une uniformité d'exposition uniforme avec le contrôle de l'uniformité des cibles (TUC). Le Wafer Stepper offre également une excellente stabilité de température et un bon fonctionnement dans le contrôle des effets de la dérive thermique. NSR 2205 i12C peut exposer des plaquettes avec jusqu'à 300 mm (12 pouces) de plage d'exposition, répondant aux besoins de traitement des semi-conducteurs les plus exigeants d'aujourd'hui. Il peut atteindre une résolution de demi micron à 785 nm de longueur d'onde, assurant une fidélité maximale et un support pour les nœuds de processus les plus avancés de 10nm. La machine à moteur à six axes (SAM) propriétaire du NSR-2205I12C offre des capacités de balayage vertical optimisées pour le recouvrement des motifs et l'optimisation de l'exposition. La fonction de maintenance automatique des outils (ASM) garantit aux utilisateurs une exploitation fiable sur le terrain à long terme. NIKON NSR 2205 i12C Wafer Stepper est conçu pour un flux de travail d'imagerie rapide, efficace et fiable. Son optique haut de gamme et ses plates-formes logicielles sophistiquées en font un choix idéal pour des processus d'imagerie semi-conducteurs exigeants. Sa technologie sophistiquée et ses fonctionnalités avancées offrent aux utilisateurs la plus haute qualité possible d'imagerie de plaquettes et la fiabilité opérationnelle.
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