Occasion NIKON NSR 4425i #293606712 à vendre en France

NIKON NSR 4425i est un pas de plaquette de pointe utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Il est équipé d'une grande optique et d'une grande source d'électrons à émission de champ froid (FEG), permettant le traitement de grands substrats. L'équipement optique de NIKON NSR-4425I est composé d'un objectif de haute qualité, d'un illuminateur et d'un système de séparation des faisceaux qui divisent le faisceau en deux chemins optiques distincts. L'objectif permet un balayage à haute résolution à l'intérieur du substrat, tandis que l'illuminateur produit une intensité de faisceau uniforme à travers le substrat. L'unité de séparation du faisceau divise le faisceau en deux chemins optiques, permettant l'imagerie de deux emplacements différents d'un substrat simultanément. Ceci permet d'augmenter le débit et une meilleure uniformité du substrat lors de la fabrication. La source d'électrons FEG dans NSR 4425 I offre des électrons plus énergétiques que les sources d'émission de champ classiques, ce qui lui permet de traiter les substrats plus rapidement et avec une plus grande précision. En outre, la source FEG fournit des niveaux de bruit réduits et une largeur d'impulsion électronique plus courte - ensemble, ils permettent d'améliorer les performances d'imagerie sur l'étage de la plaquette. NSR-4425I est équipé d'une machine de commande complète qui assure le fonctionnement et la gestion à distance et locale de la machine. Il supporte une gamme de formes, y compris polygonale, ligne et courbe, ainsi que plusieurs opérations de décalage de motifs et de commande de superposition. En outre, l'utilisateur peut sélectionner des vitesses de processus jusqu'à 20 fois plus élevées que les systèmes utilisant d'autres sources d'électrons. En résumé, NIKON NSR 4425 I est un pas de plaquette avancé conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs les plus exigeants. Il combine un outil optique haute résolution avec une puissance électronique accrue et un atout de contrôle complet, fournissant un débit plus rapide et de meilleurs résultats dans le traitement du substrat.