Occasion NIKON NSR i11D #293610278 à vendre en France

NIKON NSR i11D est un pas de plaquette conçu pour modeler avec précision les photomasques utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Il dispose d'une précision d'alignement de 20 nanomètres et fournit une dose d'exposition élevée de 10 mJ/cm2. Le i11D est équipé de NIKON Advanced Scanning Station Module qui permet l'optimisation de la focalisation et de l'exposition, les capacités d'auto-chargement et de déchargement, l'alignement automatique et la détection de position cible. La machine exploite un faisceau de 6 pouces NA 0,63 avec une longueur d'onde d'éclairage laser excimère KrF. Le i11D est composé d'un scanner, d'un objectif et d'une source lumineuse. Le scanner est responsable du positionnement précis d'une image de motif sur l'étage de la plaquette du photomasque. L'objectif à travers lequel le faisceau d'exposition est focalisé est un objectif asphérique spécialement conçu avec une efficacité de diffraction qui fournit une excellente fidélité à l'image. La source lumineuse est un laser excimère KrF capable de générer une forte dose d'énergie d'exposition de 10 mJ/cm2, permettant l'exposition de masques enduits de photorésist pour créer des motifs dans la plaquette. NSR i11D dispose d'un équipement avancé d'auto-alignement capable de reconnaître et de mesurer les caractéristiques d'alignement fin sur les photomasques. Le système utilise une caméra de projection pour déchiffrer les marques d'alignement sur le masque et déterminer les coordonnées du motif à exposer. De plus, l'unité d'auto-alignement est capable de modeler différentes tailles de fonctionnalités de 10 microns à 0,5 microns. NIKON NSR i11D est compatible avec une gamme de substrats photomasques, et peut accueillir des plaquettes de plus de 100 mm de diamètre. La machine est également livrée avec plusieurs recettes intégrées pour les paramètres d'exposition adaptés à des types de photomasques spécifiques. Ceci facilite le maintien des mêmes configurations lors du transfert des tâches d'un substrat à l'autre. Enfin, NSR i11D est équipé d'une machine de détection des défauts en temps réel qui inspecte les photomasques exposés et détecte les défauts en temps quasi réel. Cela garantit que les photomasques sont traités avec précision et fiabilité, tout en minimisant les temps d'arrêt et en améliorant la productivité.