Occasion NIKON NSR i12D #293609816 à vendre en France

NIKON NSR i12D est un pas de plaquette polyvalent utilisé dans les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Sa grande précision et sa productivité sont adaptées aux besoins de fabrication des appareils de nouvelle génération. Le i12D est équipé d'une taille de plaquette de 12 "maximum et de deux faisceaux laser à balayage cohérent générés par une source laser ultrapuissante. Ceci fournit une précision d'alignement extrêmement précise jusqu'à 0,1 µm et une résolution jusqu'à 0,08 µm. Il est capable d'exposer simultanément des tailles de champs multiples et éventuellement d'atteindre des structures de sous-microns. Cette caractéristique est utilisée pour minimiser le temps de production et la quantité de correction lors des processus de mise à terre des semi-conducteurs. Le i12D dispose également d'une tête laser amovible pour un entretien facile, ainsi que des fonctions d'alignement automatique et de réglage de la focale qui améliorent l'efficacité de l'opérateur. De plus, un logiciel de lithographie intégré permet un contrôle et une évaluation efficaces des résultats. En outre, il est conçu avec un cadre à faible vibration pour réduire l'empreinte et protéger l'environnement environnant. NSR i12D est une plate-forme flexible qui peut fournir à la fois des expositions de commandes alternées (AO) et des expositions autonomes tout en supportant une gamme de sources d'énergie, y compris des lentilles standard et non standard. Il supporte également le revêtement en couche mince pour accueillir les dispositifs à transistor en couche mince. En termes de puissance, le i12D est équipé d'un système de commande 9 axes avancé qui permet un contrôle multi-axes pendant son processus d'exposition. Cela favorise des performances précises et répétables pour toutes les opérations d'exposition. En outre, son logiciel intégré de correction de motifs permet une résolution améliorée et la précision de la taille des fonctionnalités. Dans l'ensemble, NIKON NSR i12D est un pas de plaquette idéal pour les procédés semi-conducteurs avancés. Ses caractéristiques le rendent bien adapté à la prochaine génération de fabrication de dispositifs, permettant aux fabricants de réduire le temps de production et d'augmenter les rendements.