Occasion NIKON NSR S203B #9357170 à vendre en France

NIKON NSR S203B est un pas de plaquette de pointe conçu pour les procédés de lithographie avancés. C'est un outil de type immersion utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'équipement dispose d'un système optique optimisé, permettant une résolution de 0,13 µm, une taille de pas de 0,07 µm et une profondeur de focalisation de 1,7 µm. L'unité est un aligneur de masque avancé très intégré capable de produire une résolution lithographique de sous-microns. La machine est équipée d'une machine à focalisation automatique laser haute vitesse 6kW et d'un contrôle automatique à six axes pour améliorer l'uniformité et la précision de l'imagerie. Cela permet de s'assurer que la plaquette est bien placée au stade de l'exposition et que la concentration optimale de l'exposition est atteinte. Il offre également un outil de refroidissement avancé avec une enveloppe de refroidissement liquide pour éviter que l'indice de réfraction ne change après l'exposition. La précision obtenue par cet actif est essentielle pour garantir la plus haute qualité de lithographie possible. NIKON NSR-S203B est conçu pour offrir aux utilisateurs une gamme complète de fonctionnalités, y compris une opération d'exposition entièrement automatisée, un modèle d'exposition de haute précision et un niveau de précision d'exposition supérieur à un pour cent. L'équipement d'exposition intègre un système de compensation de couche de résistance avec un débit élevé et un temps d'exposition faible, afin d'optimiser la vitesse et la précision de l'exposition. L'unité de contrôle assure une synchronisation parfaite entre la plaquette et l'unité d'exposition, et permet d'ajuster les paramètres d'exposition. La machine dispose également d'une chambre d'environnement très efficace contrôlée par la température pour protéger les composants contre l'exposition aux fluctuations thermiques. Ceci augmente fortement la stabilité thermique du dispositif et réduit également les erreurs d'image potentielles. En outre, l'outil fournit un actif de contrôle des vibrations, ce qui réduit le temps d'exposition pour assurer la meilleure qualité d'imagerie. NSR S203B fournit également d'excellents résultats d'imagerie grâce à l'utilisation d'algorithmes avancés développés pour les petites fonctionnalités, les masques haute résolution et les expositions complexes. Le processus d'exposition est encore amélioré par l'utilisation d'une caméra haute résolution et d'algorithmes avancés de traitement d'image. La caméra peut détecter toute saleté ou défaut sur la plaquette et s'ajuster automatiquement pour eux. Le modèle comprend également une interface utilisateur sophistiquée pour programmer l'équipement, permettant aux utilisateurs de définir rapidement les paramètres et paramètres d'exposition. Dans l'ensemble, NSR-S203B wafer stepper fournit aux utilisateurs une plate-forme de lithographie avancée capable de fournir des processus d'exposition de haute précision, haute vitesse, haut débit et haute précision. Il est conçu pour être une solution tout-en-un pour les fabricants d'appareils, offrant des performances d'imagerie de pointe et la précision.