Occasion NIKON NSR S204 #9241845 à vendre en France

NIKON NSR S204 est un pas de tranche conçu pour la production et la recherche dans les industries microélectroniques et semi-conductrices. Il s'agit d'une étape spécialisée et d'un outil de répétition optimisé pour la fixation de précision des microstructures microélectroniques et des cartes de circuit. NSR S204 utilise un générateur de motifs bidimensionnels pour créer le motif requis sur le substrat. Il utilise une combinaison d'optique de faisceau, de lithographie de faisceau d'électrons et de lentilles d'imagerie optique. Le faisceau d'électrons est produit par un canon à fort courant et est conformé et dirigé vers la surface cible à l'aide d'une série d'éléments de focalisation. Cela crée des caractéristiques à l'échelle nanométrique avec des tailles jusqu'à 17nm. Les motifs créés peuvent être utilisés pour créer des microstructures pour des conceptions intégrées de puces. NIKON NSR S204 a un haut niveau d'uniformité de motifs de plaquettes et de précision d'enregistrement. Il dispose d'un système breveté de balayage double piste qui fournit une grande uniformité sur toutes les tailles de plaquettes. Il dispose également d'un ordre de champ de balayage jumelé unique avec accumulation graduée pour assurer la précision lors du traitement de plus grandes plaquettes. L'étape et le mode de répétition de NSR S204 permettent un ajustement fin de la taille du champ pour maximiser le débit dans les processus de fabrication. Ce pas de plaquette a une large gamme de paramètres de processus, y compris une gamme de tailles de plaquettes, expositions, et les tailles de fonctionnalités. Il est également capable de manipuler des processus à haute et basse température. Il a un débit allant jusqu'à 3 plaquettes/heure, et une précision de 5-7nm. Il est opérationnel de -7 ° C à + 50 ° C et a une tension d'alimentation de 110V/20A, 50-60Hz. Le système miroir est équipé d'une capacité de 5 axes pour minimiser les interférences de vibration avec le faisceau d'électrons. Le NIKON NSR S204 est utilisé pour le marquage au niveau des plaquettes, ce qui permet d'obtenir une qualité et une uniformité supérieures. Grâce à ses capacités de modélisation de précision, il est idéal pour les procédés avancés de lithographie et d'optoélectronique. Le pas de plaquette offre un moyen rentable de produire avec précision des microstructures avec des pertes de rendement minimales.