Occasion NIKON NSR S204B #9243041 à vendre en France

NIKON NSR S204B est un pas de plaquette de pointe conçu pour des applications avancées de fabrication de semi-conducteurs. Utilisant des équipements VaritecTM propriétaires de NIKON, NIKON NSR-S204B est capable de fonctionner en mode multi-motifs et en mode monoexposition. Son système optique avancé, capable de délivrer une haute résolution à faible NA (ouverture numérique) permet à l'étage de produire un motif à haute résolution à haut débit. De plus, le pas de plaquette est conçu pour un alignement rapide et facile, avec des fonctions manuelles et auto-focus. Le NSR S 204 B a été conçu avec une gamme complète de caractéristiques, ce qui en fait un choix optimal pour les applications avancées de lithographie. Par exemple, ses systèmes de gestion de l'oxydation ont été développés pour soutenir les processus de faible défectivité dans la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. Le stepper wafer comprend également NIKON propriétaire « Smart Recipe Generator », qui utilise une interface de glisser-déposer intuitive pour générer rapidement des recettes optimisées. Une chambre à ultra-haute dépression (UHV) est également incluse dans l'étage de la plaquette, ce qui évite les défauts dus à l'oxydation et à la contamination. NSR S204B comprend également une gamme de systèmes de contrôle des mouvements actifs et passifs, permettant une précision et un débit accrus. Sa commande d'étage à deux axes est capable de fournir des motifs de haute précision, avec une précision de balayage aussi faible que 10 nm lorsque l'on utilise un pas de 10 μ m. Le wafer stepper intègre également un module de zoom à grande vitesse, permettant de réimposer les motifs sans réinitialisation manuelle. De plus, le NIKON NSR-S 204 B permet d'obtenir un alignement de motifs de haute précision, grâce à une machine optique de projection de haute précision et à des repères d'alignement. Sa précision de recouvrement, lors de l'utilisation de NIKON propriétaire ICF (Image Circle Fit) maximise les performances sur plusieurs substrats, conduisant à un rendement et une fiabilité des appareils plus élevés. Dans l'ensemble, NSR-S 204 B est un pas de plaquette avancé, spécialement conçu pour des applications de mesure de haute précision, telles que la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. Cela en fait un choix idéal pour les approches lithographiques avancées, telles que la lithographie multi-motifs, la lithographie basse tension et les procédés semi-conducteurs à dimension critique ultra-basse. Haute résolution et haut débit sont combinés avec un excellent contrôle du processus et la maniabilité, faisant NIKON NSR S 204 B un choix idéal pour la production avancée de dispositifs semi-conducteurs.