Occasion NIKON NSR S204B #9244030 à vendre en France

NIKON NSR S204B est un pas de plaquette avancé conçu pour des performances supérieures dans la production de transfert de modèle. Sa puissante source lumineuse et son optique avancée en font un outil idéal pour la fabrication de photomasques haute résolution avec des caractéristiques d'échelle nanométrique. NIKON NSR-S204B est équipé d'une optique à scanner de pointe et d'un système d'éclairage superlatif. La source lumineuse de NSR S 204 B est une lampe à décharge UV d'une puissance maximale de 2,2 kW. Cela permet à l'étape d'atteindre un haut débit et des niveaux de distorsion bas, tout en restant capable d'obtenir d'excellentes largeurs de ligne et séparations. L'optique du NIKON NSR-S 204 B a été spécialement conçue pour permettre un alignement et une mise au point précis, même en imagerie de petites tailles. Le NIKON NSR S 204 B est équipé d'une plate-forme de mouvement piézoélectrique haute vitesse, qui lui permet de positionner avec précision les plaquettes dans la zone d'exposition optimale pour les meilleurs résultats de transfert de motifs. NIKON S204B dispose également d'un système de transfert de masques entièrement automatisé, qui est capable de manipuler des masques jusqu'à 8 pouces, ainsi que des programmes plus avancés pour des processus plus complexes. Il comprend des options telles que l'auto-focus et l'auto-positionnement, qui permet à l'opérateur de localiser rapidement et avec précision la zone d'exposition parfaite avant la prise de vue. NIKON S204B dispose également d'un système intégré de détection des défauts sans contact, qui permet à l'opérateur d'identifier et de résoudre rapidement les problèmes avant d'autres étapes de production. Si vous êtes à la recherche d'un pas de plaquette qui offre une grande précision et fiabilité dans la production de transfert de modèle, NSR-S 204 B est un excellent choix. Il combine des sources lumineuses UV puissantes et durables avec une optique avancée et une plate-forme de mouvement piézoélectrique à grande vitesse, ce qui en fait un excellent outil pour la production de masques photo à l'échelle du nanomètre.