Occasion NIKON NSR S205C #9308056 à vendre en France
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ID: 9308056
Taille de la plaquette: 12"
KrF Scanner, 12"
Magnification: 4x
Wave length: 248 nm
Exposure type: Static
Handedness: Inline left / Right
Track interfaces: TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8, ACT 12-200, ACT 12
Lens type: 4:1
MAC Real-time lens control
Chamber type: Standard
Chamber temperature set point: 22.2°C
Variable numerical aperture: 0.6 - 0.75
sPURE
Resolution Enhancement Technology (RET)
RET Apertures:
1/3 Annular (LNA: 0.75)
1/2 (LNA: 0.75)
2/3 (LNA: 0.75)
2/5 (LNA: 0.75)
2/5 (LNA: 0.68)
SHRINC Illuminator σ: 0.85
Quick Reticle Change (QRC)
(6) Reticles, 0.25"
Reticle microscope compatibility: 22.0 mm fixed
Reticle loader with reticle controller
Reticle barcode reader
Field Image Alignment (FIA) System
Laser Step Alignment (LSA) System
Phase contrast FIA
TTLFC2
Beam matching unit
Pre-alignment 2
Wafer stage: Air bearing / Linear motors
Wafer loader: Type 4
AVIS System
Multipoint focus / Level
Extended wafer carrier table
Pellicle Particle Detector (PPD3)
NIKON SECS II GEM Interface
CYMER ELS6410 KrF Excimer laser source.
NIKON NSR S205C est un pas de plaquette spécialement conçu pour les procédés de lithographie photomasque. Cet étage dispose d'un équipement d'imagerie statique et cinétique propriétaire qui est capable de produire des masques pour une large gamme d'applications de dispositifs, des semi-conducteurs aux écrans plats. NIKON NSR S 205 C stepper emploie une tête d'exposition à haut débit avec une résolution maximale de 6,6 μ m pour une qualité d'image supérieure. Il intègre également les dernières technologies NIKON, telles que l'indexation haute dynamique (HDI) et l'enregistreur laser direct (DLW), qui permettent l'imagerie sous-résolution. De plus, cet étage est équipé d'un système de manutention automatisé des plaquettes à sept axes qui permet un alignement et un placement précis des plaquettes. Le stepper comprend également une unité optique originale Carl Zeiss-Varilux ainsi que le NIPR (Nanometer Resolusing Imaging Platform with Resolutions) pour fournir une excellente résolution et répétabilité pour une grande variété de substrats et de types de photomasques. En outre, NSR S205C dispose d'une machine d'imagerie à ouverture rapide en arc avec une réduction de la consommation d'énergie. Cette étape offre également une technologie de projection atmosphérique exclusive, qui garantit une consommation de gaz minimale tout au long du processus d'exposition. De plus, le stepper est capable d'expositions simultanées simples ou doubles en une seule opération d'exposition, permettant ainsi aux opérateurs de réaliser une exposition sur un ou deux masques. L'ensemble de l'outil NSR S 205 C dispose d'une interface graphique conviviale avec une fonctionnalité haute performance qui est programmée avec une variété de simulations et de paramètres de lithographie. De plus, ce stepper est également équipé d'un outil d'alimentation en wafer auto-senseur économe en énergie, qui permet des économies d'énergie ainsi qu'un fonctionnement sûr. De plus, un modèle auto-autofocus automatise le processus de mise au point et produit une excellente précision de centrage des plaquettes. En outre, le stepper est livré avec une interface personnalisable, permettant aux utilisateurs d'optimiser les paramètres de lithographie pour une variété d'applications. Dans l'ensemble, NIKON NSR S205C est un pas de plaquette avancé conçu pour des processus de lithographie optimisés. Il est idéal pour la production de semi-conducteurs, d'écrans plats, de capteurs d'images et d'autres produits liés à l'image. Il est équipé d'un équipement d'imagerie puissant et d'une variété de fonctionnalités avancées, ce qui en fait un choix approprié pour une variété d'applications.
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