Occasion NIKON NSR S208D #293778354 à vendre en France
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ID: 293778354
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
KrF Scanner, 12"
External foup system
SMIF
2008 vintage.
NIKON NSR S208D est un pas de plaquette de pointe conçu et développé par le célèbre spécialiste japonais de l'optique et de l'imagerie, NIKON Corporation. Cet outil de pointe est spécialement conçu pour les procédés de photolithographie dans l'industrie des semi-conducteurs, où la fixation précise sur des plaquettes semi-conductrices est une étape critique dans la fabrication de circuits intégrés et autres dispositifs microélectroniques. NSR S208D fait partie du vaste portefeuille de solutions de lithographie NIKON et est connu pour sa haute performance, sa précision et sa fiabilité. Au cœur de NIKON NSR S208D se trouve son équipement optique sophistiqué, qui joue un rôle crucial dans la définition des capacités de résolution et d'imagerie du stepper. Le système intègre la technologie de pointe des lentilles et des techniques d'éclairage pour obtenir une résolution de sous-microns et un réglage serré sur la plaquette de semi-conducteur. Le stepper est équipé d'une lentille à ouverture numérique élevée (NA) qui lui permet de projeter des motifs complexes avec une clarté et une fidélité exceptionnelles, essentielles pour produire des caractéristiques de circuit haute densité sur des plaquettes. NSR S208D dispose d'une machine à étages de haute précision qui permet un positionnement et un déplacement précis de la plaquette pendant le processus d'exposition. L'étape est conçue pour minimiser les vibrations et la dérive, en assurant un alignement cohérent et une précision de recouvrement sur plusieurs expositions. Ce contrôle précis de la position de la plaquette est essentiel pour atteindre des tolérances dimensionnelles serrées et assurer l'intégrité des motifs de circuit sur les dispositifs semi-conducteurs finaux. L'un des points forts de NIKON NSR S208D est ses capacités d'imagerie et d'alignement avancées. Le stepper est équipé de plusieurs modes d'alignement, y compris des algorithmes d'imagerie avancés et des systèmes de détection de marques d'alignement, qui permettent un recouvrement précis et une correspondance de motifs entre les différentes couches de masque. Ceci garantit que les différents composants du circuit sont correctement alignés au cours du processus de lithographie, ce qui est crucial pour obtenir une performance et un rendement optimaux du dispositif. En outre, NSR S208D est conçu pour supporter une large gamme de procédés semi-conducteurs, y compris la lithographie en ligne et en ultraviolet profond (DUV). Le stepper peut accueillir différents types de photomasques et de réticules, ce qui permet une flexibilité dans l'établissement de différentes structures de conception et de caractéristiques sur la plaquette. Cette polyvalence rend NIKON NSR S208D bien adapté pour une gamme variée d'applications de semi-conducteurs, des nœuds de processus de pointe aux nœuds de technologie plus matures. En plus de ses capacités techniques, NSR S208D est également connu pour son interface conviviale et ses contrôles logiciels, qui rationalisent le fonctionnement et améliorent la productivité dans un environnement manufacturier. Le stepper est équipé de fonctionnalités d'automatisation avancées qui minimisent le temps de configuration, optimisent les paramètres d'exposition et facilitent le traitement rapide des plaquettes. Ce flux de travail intuitif est conçu pour maximiser le débit et l'efficacité, permettant aux fabricants de semi-conducteurs de répondre à des exigences de production rigoureuses et de temps sur le marché. En résumé, NIKON NSR S208D représente une solution de pointe pour la lithographie semi-conductrice, combinant une optique de pointe, un contrôle d'étage de précision et une technologie d'imagerie sophistiquée pour offrir des capacités de mesure de haute performance. Avec sa résolution supérieure, sa précision d'alignement et sa flexibilité de processus, NSR S208D est un choix idéal pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à repousser les limites de l'échelle des appareils et de l'innovation dans l'industrie des semi-conducteurs en constante évolution.
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