Occasion NIKON NSR S306 #9114893 à vendre en France

NIKON NSR S306
Fabricant
NIKON
Modèle
NSR S306
ID: 9114893
Taille de la plaquette: 8"
ArF Scanner, 8".
NIKON NSR S306 wafer stepper est un équipement de précision utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le traitement lithographique. Il est conçu pour aligner les motifs avec une précision de niveau nanométrique sur les plaquettes de 150mm à 300mm. NSR S306 comprend un étage d'optique de projection, un étage de haute précision, une technologie de balayage à fente et un masque numérique de modulateur de lumière spatial (SLM). Il a une résolution leader de l'industrie de 26nm demi-pas. L'étage optique de projection comprend un objectif en verre asphérique et un système optique grand angle avancé. L'unité optique avancée assure que la lumière est projetée correctement et qu'elle est exempte d'aberration optique. L'étage d'optique de projection dispose également d'un mécanisme d'autofocus pour un alignement rapide. L'étage de haute précision permet une précision de niveau nanométrique. Ceci est réalisé par une machine de commande de mouvement en boucle fermée et une étape de balayage résistant à la chaleur. Cette étape comprend également un mécanisme de manutention de plaquettes, qui permet de charger facilement des plaquettes de toute taille et épaisseur. La technologie de balayage à fente offre une mise en forme reproductible et précise du motif d'affichage et peut scanner à des cycles de photoengravure de répétition allant jusqu'à 600kHz. Il est également utilisé pour l'imagerie à faible dose, ce qui aide à minimiser les artefacts d'image pour fournir une image claire. Le masque numérique SLM est utilisé pour générer le motif d'éclairage qui est projeté sur la plaquette. Ce masque est composé d'un matériau spécial qui permet à la lumière de diffracter et de former les motifs désirés. NIKON NSRS 306 wafer stepper est un outil de précision fiable qui est facile à utiliser et très précis. Il offre d'excellentes performances et est parfait pour la production de lithographie en grand volume. L'actif est conçu pour la recherche et le développement ainsi que pour des applications de production de masse.
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