Occasion NIKON NSR S307E #9386223 à vendre en France

NIKON NSR S307E est un pas de plaquette haute performance, conçu pour les procédés de lithographie avancés. Il offre flexibilité et évolutivité avec des fonctionnalités et des technologies avancées pour améliorer les processus de lithographie et les performances. Il fournit des résolutions ultra-précises, un débit élevé et un faible coût de possession. Le NSR S307E est idéal pour les procédés de production qui nécessitent un tissage extrêmement fin avec de petites tailles de caractéristiques et des tolérances étroites. Il peut traiter une large gamme de substrats, allant de plaquettes aussi petites que 1,6 mm de diamètre jusqu'à 300 mm. L'stepper est capable d'une taille de champ allant jusqu'à 200 mm par 200 mm, avec un pas minimum aussi fin que 0,075 µm et une taille de caractéristique minimale de 0,2 µm. Il a une résolution disponible comprise entre 0,3 nm et 0,5 nm. NIKON NSR S307E offre également une gamme de fonctionnalités et de technologies avancées. Il dispose d'un système d'étalonnage optique sur l'outil, qui assure une imagerie et un alignement précis, et d'un large choix de sources d'exposition, telles que He-Cd, KrF et I-line. Le stepper comprend également une séquence de focalisation et d'alignement entièrement automatisée, et un système d'alignement interférométrique laser. NSR S307E a également été conçu pour une variété de types de photomasques, des masques standard et à double face aux masques à haute réflexion et à motifs. Il offre également des fonctions avancées telles que la sélectivité d'alignement, de multiples superpositions de motifs, et la capacité optionnelle de masque à quartz. De plus, le stepper est également capable de processus multicouches, avec uniformité optique et contrôle des défauts pour assurer des rendements de production toujours élevés. NIKON NSR S307E offre également une grande variété d'options et d'accessoires pour améliorer ses fonctionnalités et ses capacités. Il comprend des options pour la gravure à haut rapport d'aspect, la mesure de l'épaisseur in situ et une profondeur de focalisation étendue. Il peut également être utilisé avec différents types de manipulateurs, tels que des étages rotatifs, motorisés et coordonnés. Dans l'ensemble, NSR S307E est un pas de plaquette avancé mais facile à utiliser qui offre des performances de lithographie supérieures requises pour les applications avancées des appareils. Il offre des capacités d'imagerie haute performance, une taille et une résolution flexibles et des fonctions d'alignement précises. Avec sa gamme de caractéristiques et d'accessoires, il offre une solution idéale pour tout processus de production de puces.