Occasion NIKON NSR S308F #9293213 à vendre en France

NIKON NSR S308F est un pas de plaquette haut de gamme utilisé pour la production en grand volume de dispositifs semi-conducteurs avancés tels que circuits intégrés (IC), puces à mémoire, et divers autres composants. Il est doté d'un design de carrosserie particulièrement compact et léger et est idéal pour la production directe de substrat avec une qualité d'image ultra-élevée. C'est un outil professionnel dédié pour la lithographie ultra haute résolution, et offre une performance innovante, puissante et fiable. NSR S308F dispose d'un équipement optique de pointe, construit avec des composants optiques de pointe, qui fournit une résolution à l'échelle du nanomètre sur l'ensemble du domaine. Le système d'imagerie par zone optique (OZI) adopté par NIKON NSR S308F augmente encore la résolution réalisable du pas. Ses vitesses de changement de balayage rapides et fiables sont capables de produire jusqu'à 1um linéaires et 0.5um carrés. L'unité de grossissement en 5 étapes de NSR S308F passe facilement entre les petites et les grandes tailles de champ avec une large gamme de grossissements d'exposition. NIKON NSR S308F offre des fonctions de contrôle rapides, flexibles et avancées, telles que la commande de balayage optique en temps réel, l'algorithme d'exposition multiple, la correction de distorsion des plaquettes et Auto Focus. Un niveau précis de précision de recouvrement est atteint avec sa fonction d'auto-alignement dans la machine. NSR S308F dispose également d'une grande capacité d'alignement, avec son grand plateau de support de wafer conçu pour répondre aux exigences communes de planéité. Il est équipé de divers matériaux de plaques de mise en forme de faisceau et d'absorbeurs, fournissant une plate-forme flexible pour l'optimisation facile de divers paramètres d'outils optiques. Un atout de douche à air unique permet le traitement de substrats propres sensibles à l'environnement avec des tailles de particules allant jusqu'à 0,7 micromètre. En outre, NIKON NSR S308F offre une production à grande vitesse avec un débit élevé pouvant atteindre 2500 wafers par heure. Il présente également une auto-mise au point rapide et précise pour garantir la meilleure qualité d'image au-dessus de 1nm avec un champ de vision de haut grossissement. Un grand moniteur plat et une disposition facile des boutons d'accès permettent un fonctionnement simple et intuitif. NSR S308F est un modèle de lithographie avancé et fiable qui peut efficacement augmenter l'efficacité et le rendement avec sa conception technologique de pointe.