Occasion NIKON NSR S609B #9188831 à vendre en France
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ID: 9188831
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Wafer stepper, 12"
CYMER XLA 240 Laser
Resolution: ≦ 55 nm
NA: 1.07
Exposed light source: ArF Excimer laser
Wavelength: 193 nm
Reduction ratio: 1:4
Maximum exposing range: 26 x 33 mm
Overlap accuracy: ≦ 7 nm
Throughput: ≧ 130 wafers/hour (76-Shots)
Exposure power conversion: 4800,952 (mW/cm²)
Illumination uniformity conversion: 0.205% (Dynamic)
Wafer holder flatness, Hip flatness: 2.018 μm
Reduction magnification: 1:4
Measurement of moving mirror measuring:
Residual WX: 1.201 nm
Residual WY: 1.271 nm
Exposure of light moving stage mirror measuring:
Residual WX: 1.028 nm
Residual WY: 0.533 nm
Lens distortion:
Max X: 6.2 nm Y: 3.9 nm
Max X: -6.3 nm Y: -2.4 nm
Stepping precision (Step):
SX1: 3σ = 5.8 nm
SX2: 3σ = 6.9 nm
SX3: 3σ = 6.6 nm
SY1: 3σ = 4.0 nm
SY2: 3σ = 4.2 nm
SY3: 3σ = 4.2 nm
2006 vintage.
NIKON NSR S609B est un pas de plaquette de haute précision qui est capable de produire des plaquettes semi-conductrices de pointe d'excellente qualité avec l'utilisation d'une variété de réticules tels que lentilles pas à pas, microscope optique et lentille de champ sombre. C'est un outil de lithographie très polyvalent conçu pour la production de circuits intégrés à grande échelle (LSI), DRAM, et d'autres produits de mémoire avancée. NSR S609B est un pas d'alignement de balayage, qui est capable d'améliorer la vitesse et la précision des opérations de pas. Cet équipement est équipé d'un scanner haut de gamme, d'un système d'alignement laser et d'une unité de communication qui permet aux utilisateurs de contrôler et de surveiller les opérations de la machine à partir d'un seul terminal. L'optique avancée du faisceau d'électrons et la lentille pas à pas haute résolution de l'unité maximisent la précision des motifs créés sur ses plaquettes. Le trait de marquage de NIKON NSR S609B est son logiciel AutoVisionTM avancé qui est capable de la compensation pour les défauts d'alignement dans un processus de masquage et permet aussi aux utilisateurs d'appliquer des corrections de fournée à travers un large éventail d'angles d'exposition, angles de lumière d'incident et grandeurs de gaufrette. L'outil dispose d'un actif intégré de surveillance des plaquettes qui peut être utilisé pour inspecter l'intégrité des surfaces des plaquettes pendant le fonctionnement des paliers. NSR S609B dispose d'un large éventail de fonctionnalités et de technologies conviviales telles que le support de service à distance, les tolérances de défaut jusqu'à 0,2 um, le balayage à grande vitesse qui permet aux utilisateurs de profiter d'un temps d'exposition réduit, et est capable de traiter jusqu'à cinq plaquettes en même temps. Le stepper est également livré avec un modèle d'auto-correction qui peut détecter et analyser les irrégularités dans le placement et la précision de placement, un alignement puissant basé sur le programme qui aide à minimiser la distorsion d'image, et un équipement d'analyse de modèle pour s'assurer que le stepper fonctionne à la performance globale optimale. Pour s'assurer que ses utilisateurs maximisent leur productivité, l'unité est équipée d'un déchargeur de 200 plaquettes et d'un chargeur de 200 plaquettes, conçus pour réduire le temps et l'énergie inutiles consacrés à la manutention manuelle des assemblages de plaquettes. Ce système comporte également un certain nombre de mesures de protection qui empêchent la poussière et la saleté d'entrer dans la chambre, ce qui contribue efficacement à prolonger la durée de vie de ses composants et à réduire les coûts d'entretien. Dans l'ensemble, NIKON NSR S609B est un pas de plaquette fiable et puissant qui est fortement recommandé pour la production de produits de mémoire avancée, LSI, et DRAM. Avec sa grande précision, ses caractéristiques avancées et ses commandes faciles à utiliser, NSR S609B est certainement un choix impressionnant pour ceux qui recherchent un pas de plaquette polyvalent et précis.
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